[發明專利]絕緣體插裝型等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201080003171.X
• 申請日: 2010-02-10
• 公開（公告）號: CN102209799A
• 公開（公告）日: 2011-10-05
• 發明（設計）人: 椎名祐一
• 申請（專利權）人: 日本磁性技術株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;H05H1/48
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 崔成哲

1.一種絕緣體插裝型等離子體處理裝置，包括：

等離子體產生部，在真空氣氛下進行真空電弧放電而從靶表面產生等離子體；

等離子體輸送管，輸送由所述等離子體發生部產生的等離子體；以及

等離子體處理部，通過從所述等離子體輸送管供給的等離子體對被處理物進行處理，其特征在于，

在所述等離子體發生部與所述等離子體輸送管之間插裝始端側絕緣體，在所述等離子體輸送管與所述等離子體處理部之間插裝終端側絕緣體，使所述等離子體發生部、所述等離子體輸送管以及所述等離子體處理部相互電氣地獨立，切斷了針對等離子體輸送管的來自所述等離子體發生部和所述等離子體處理部的電氣影響。

2.根據權利要求1所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

將所述等離子體輸送管分割成多個小輸送管，在鄰接的小輸送管之間插裝中間絕緣體，使所述小輸送管彼此電氣地獨立，切斷了針對任意的所述小輸送管的來自其它所述小輸送管的電氣影響。

3.根據權利要求1或者2所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

所述等離子體輸送管或者所述多個小輸送管處于不被強制地賦予電位的電氣浮動狀態。

4.根據權利要求1或者2所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

對所述等離子體輸送管或者所述小輸送管中的每個連接輸送管用偏置電源，使對所述等離子體輸送管或者所述小輸送管賦予的電位的大小(包括接地電位)以及電位的極性可變。

5.根據權利要求1～4中的任意一項所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

在收容產生等離子體的靶而與所述靶電氣地絕緣了的等離子體發生部容器的下方，配置收容備用靶的靶交換部容器，在所述等離子體發生部容器與所述靶交換部容器之間插裝容器間絕緣體而使所述等離子體發生部容器與所述靶交換部容器電氣地獨立，所述等離子體發生部容器被設定為不被強制地賦予電位的電氣浮動狀態，對所述靶交換部容器附設容器用偏置電源，使對所述靶交換部容器賦予的電位的大小(包括接地電位)以及電位的極性可變。

6.根據權利要求1～5中的任意一項所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

對收容了所述被處理物的等離子體處理部容器附設處理部用偏置電源，使對所述等離子體處理部容器賦予的電位的大小(包括接地電位)以及電位的極性可變。

7.根據權利要求1～6中的任意一項所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

所述等離子體處理部內的所述被處理物被設定為不被強制地賦予電位的電氣浮動狀態、或者附設被處理物用偏置電源而使對所述被處理物賦予的電位的大小(包括接地電位)以及電位的極性可變。

8.根據權利要求1～7中的任意一項所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

所述等離子體輸送管包括：

等離子體直進管，與所述等離子體發生部連接；

第1等離子體行進管，與所述等離子體直進管彎曲狀地連接；

第2等離子體行進管，對所述第1等離子體行進管的終端，以相對其管軸以規定彎曲角傾斜配置的方式連接；以及

第3等離子體行進管，與所述第2等離子體行進管的終端彎曲狀地連接，從等離子體出口排出等離子體，

所述等離子體從所述靶表面到達被處理物的合計長度L被設定為滿足900mm≤L≤1350mm。

9.根據權利要求8所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

在從所述第3等離子體行進管的等離子體出口不會直線狀地透視所述第1等離子體行進管的等離子體出口側的位置，幾何學地配置了所述第2等離子體行進管。

10.根據權利要求9所述的絕緣體插裝型等離子體處理裝置，其特征在于，

將在將從所述第3等離子體行進管的等離子體入口側的管剖面上端相對所述第1等離子體行進管的等離子體出口側的管剖面下端的仰角設為θ，將從所述第3等離子體行進管的等離子體出口側的管剖面下端相對所述第2等離子體行進管的等離子體出口側的管剖面上端的仰角設為θ₀時，滿足θ≥θ₀。