[實用新型]環(huán)狀工件加工系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020692761.5
• 申請日: 2010-12-30
• 公開（公告）號: CN201960319U
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發(fā)明（設計）人: 姚力軍;潘杰;王學澤;陳勇軍
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料有限公司
• 主分類號: B23P15/00
• 分類號: B23P15/00;B23Q3/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

技術領域

本實用新型涉及環(huán)狀工件加工系統(tǒng)，特別涉及濺射用環(huán)狀工件的加工系統(tǒng)。

背景技術

目前，在半導體結構表面形成電極膜通常采用濺射的方法。濺射是一種物理氣相沉積(PVD，Physical?Vapor?Deposition)的鍍膜方式，通常用于沉積半導體結構中所使用的薄膜，即以帶電粒子轟擊靶材表面，使靶材近表面的粒子獲得足夠大的能量而最終逸出靶材表面，并沉積在襯底材料上的過程。

由于帶電粒子轟擊靶材的方向是不確定的，進而襯底表面薄膜不夠均勻，襯底表面內(nèi)接觸孔或者通孔底部和側(cè)壁覆蓋能力差，因此通常會使用一些環(huán)件產(chǎn)品配合靶材一起使用。目前為采用在靶材和襯底之間設置一個磁控濺射環(huán)，所述環(huán)接地，通過其產(chǎn)生的電磁場對濺射出的靶材粒子運動進行約束，同時吸附濺射過程中可能出現(xiàn)的大的粒子，從而保證薄膜的均勻性。

請參閱圖1，圖1為現(xiàn)有技術的一種磁控濺射環(huán)的結構示意圖。圖示的磁控濺射環(huán)10具有缺口11，該磁控濺射環(huán)10包括內(nèi)表面101和外表面102。所述磁控濺射環(huán)10通常由鈦、鉭或鈮等金屬制成。所述磁控濺射環(huán)10在加工時通常是將金屬板條滾圓，由于金屬板條的表面通常為平整結構，因此該磁控濺射環(huán)10的內(nèi)表面101和外表面102也為平整結構。在濺射過程中所述內(nèi)表面101和外表面102對大的粒子的吸附能力不強。

因此，需要對所述磁控濺射環(huán)10的內(nèi)表面101和外表面102進行加工處理，以使得所述內(nèi)表面101和外表面102吸附濺射過程中產(chǎn)生的大粒子的能力更強。請參閱圖2，圖2為圖1中磁控濺射環(huán)表面加工后的花紋示意圖。圖2中是對所述磁控濺射環(huán)10的內(nèi)表面101和外表面102進行滾花處理，一般為20～～80TPI(Tooth?Per?Inch，每英寸范圍內(nèi)的凸楞數(shù))。可見，在形成花紋后對濺射過程中產(chǎn)生的大粒子的吸附能力更強。

然而，在對于環(huán)狀工件(例如為上述磁控濺射環(huán)10)內(nèi)表面和外表面進行加工時，目前還沒有提供一種較好的加工系統(tǒng)。

有鑒于此，實有必要提供一種環(huán)狀工件加工系統(tǒng)，以解決上述問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型解決的問題是提供一種環(huán)狀工件加工系統(tǒng)，以對環(huán)狀工件的內(nèi)表面及外表面進行加工，以達到對環(huán)狀工件內(nèi)外表面的加工要求。

為解決上述問題，本實用新型提供了一種環(huán)狀工件加工系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：

第一夾具，其包括若干個對接的夾持件，各所述夾持件包括扇形部和外延部，所述外延部由所述扇形部向遠離所述扇形部圓心的方向延伸形成，所述外延部的厚度大于所述扇形部的厚度，各外延部的內(nèi)側(cè)拼接形成環(huán)狀的夾持面；

第二夾具，其包括若干個對接的扇形抵持件，各抵持件外側(cè)拼接形成環(huán)狀的抵持面。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述夾持件為三個，各扇形部圓心角為120°。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述扇形部的厚度為50～～70mm。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述扇形部與所述外延部的厚度差為50～～70mm。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述夾持面所形成的環(huán)形的直徑小于或等于所述環(huán)狀工件的外圈直徑。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，各所述扇形部上設有第一固定孔，所述第一固定孔穿透所述扇形部。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述第一固定孔為若干個，各所述第一固定孔設于所述扇形部的同一半徑上，較佳的，所述同一半徑為扇形部的角平分線。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述第一固定孔為若干個，各所述第一固定孔到所述扇形部的圓心距離相等，且到扇形部的角平分線距離相等。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，各所述扇形部靠近圓心處具有第一扇形缺口，各所述第一扇形缺口拼接形成第一中心孔。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述抵持件為三個，各所述抵持件的圓心角為120°。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述抵持件的厚度為50～～70mm。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述抵持面所形成的環(huán)形的直徑小于或等于所述環(huán)狀工件的內(nèi)圈直徑。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，各所述抵持件上設有第二固定孔，所述第二固定孔穿透所述扇形部。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述第二固定孔為若干個，各所述第二固定孔設于所述抵持件的同一半徑上，較佳的，所述同一半徑為抵持件的角平分線。

可選的，所述環(huán)狀工件加工系統(tǒng)中，所述第二固定孔為若干個，各所述第二固定孔到所述抵持件的圓心距離相等，且到抵持件的角平分線距離相等。