[實用新型]一種引流擾動器及回流貯液裝置

無效

• 申請號: 201020689953.0
• 申請日: 2010-12-30
• 公開（公告）號: CN201959759U
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發明（設計）人: 沙酉鶴;彭名君
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: B01F11/00
• 分類號: B01F11/00;B65D90/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

技術領域

本實用新型涉及一種集成電路制造工藝裝置，尤其涉及一種引流擾動器及回流貯液裝置。

背景技術

在半導體工藝中，化學機械拋光(Chemical?Mechanical?Polishing，CMP)技術是機械削磨和化學腐蝕組合的技術，化學機械拋光技術借助超微粒的研磨作用以及漿料的化學腐蝕作用，在被研磨的介質表面上形成光潔平坦的平面。

CMP是使用含有氮化硅、氧化硅等研磨粒的研磨液(Slurry)以及其他化學液體來對半導體晶圓表面平坦化的方法，研磨的對象包括硅氧化膜、配線、插塞(Plug)等，在研磨墊和晶圓之間添加研磨液(Slurry)，以提高研磨效率。

研磨液及其他化學液體靜止放置在空氣中放置極易結晶，結晶的研磨液在研磨過程中會對晶圓造成劃痕(Scratch)，影響產量。現有技術，研磨液放置于貯液容器或回流貯液裝置中時，需要利用攪拌槳以及自身循環系統幫助研磨液增加一定的攪動，減少結晶的形成。

圖1為現有技術中回流貯液裝置的結構示意圖，如圖1所示，所述回流貯液裝置20與液體使用設備30管路連通，在所述回流貯液裝置20與所述液體使用設備30之間的管路上設置有調節作用的閥件32，所述回流貯液裝置20包括：貯液容器21；供應管24，首端連接于所述貯液容器21底部，尾端與液體使用設備30管路相通；泵25，設置于所述供應管24上；回流管22，首端連接于所述供應管24上，尾端位于貯液容器21上方；閥件23，設置于所述回流管22上；還包括攪拌槳10，所述攪拌槳10需要外部電源供電其轉動工作。然而，對于簡易的、僅僅用于臨時性貯液、測試用的回流貯液裝置，往往不會配備攪拌槳等攪拌裝置，因為只需要為其中泵提供給一路氣源，便可維持系統工作，否則增加攪拌槳10等攪拌裝置通常需要再接一路電源，則增加了臨時性測試的困難和成本。

對于即使是臨時性的測試，所供應的液體，例如化學液體或研磨液也會因為缺乏攪拌而容易產生沉淀和結晶，從而大大增加產品的雜質污染、劃傷等缺陷的產生。因此需要一種無需外接其他能源的情況下，增加回流貯液裝置內液體擾動，充分攪拌液體減少沉淀和結晶的裝置。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是，提供一種簡便的引流擾動器及回流貯液裝置，能夠在不需要外接其他能源的情況下，增加回流貯液裝置內液體的擾動，充分攪拌液體，減少沉淀和結晶的產生。

為解決上述問題，本實用新型提供一種引流擾動器，包括：主流管；分流管，包括至少兩個出口，入口連接于所述主流管的出口；至少兩個引流擾動管，分別連接于所述分流管的出口。

進一步的，所述引流擾動管的擾動方向在同一平面上形成同一時針轉動方向。

可選的，所述引流擾動管與所述主流管的延伸方向呈30°～90°夾角。

進一步的，所述分流管的入口設置于中部。

進一步的，所述分流管與所述主流管相垂直。

進一步地，所述分流管為直管雙出口分流管、或等角三出口分流管。

進一步地，所述引流擾動器為耐腐蝕材料。

進一步的，本實用新型還提供一種回流貯液裝置，與液體使用設備管路相通，包括：供應管，首端連接于所述貯液容器底部，尾端與液體使用設備管路相通；泵，設置于所述供應管上；回流管，首端連接于所述供應管上，尾端位于貯液容器上方；閥件，設置于所述回流管上；還包括，所述引流擾動器，位于所述貯液容器中，連接于所述回流管尾端；固定裝置，固定所述引流擾動器。

綜上所述，本實用新型所述引流擾動器利用回流貯液裝置中泵帶動液體的回流，對液體加以引導，對所述液體產生的壓力加以調節，從而增加了液體的擾動，達到攪拌的效果，減少沉淀和結晶的產生。

附圖說明

圖1為現有技術中回流貯液裝置的結構示意圖。

圖2為本實用新型一實施例中所述回流貯液裝置的結構示意圖。

圖3～圖6為本實用型中所述引流擾動器的實施例的結構示意圖。

具體實施方式

為使本實用新型的內容更加清楚易懂，以下結合說明書附圖，對本實用新型的內容作進一步說明。當然本實用新型并不局限于該具體實施例，本領域內的技術人員所熟知的一般替換也涵蓋在本實用新型的保護范圍內。

其次，本實用新型利用示意圖進行了詳細的表述，在詳述本實用新型實例時，為了便于說明，示意圖不依照一般比例局部放大，不應以此作為對本實用新型的限定。