[實(shí)用新型]一種開(kāi)屏式高散熱體

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201020685327.4
• 申請(qǐng)日: 2010-12-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN201965934U
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 常州碳元科技發(fā)展有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G12B15/06
• 分類(lèi)號(hào): G12B15/06
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：該開(kāi)屏式高散熱體包括有記憶樞，以及一端設(shè)置在記憶樞上的兩個(gè)及兩個(gè)以上的散熱頁(yè)面，所述的散熱頁(yè)面上設(shè)置有高散熱膜，該散熱頁(yè)面通過(guò)記憶樞的轉(zhuǎn)動(dòng)方式展開(kāi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：所述的高散熱膜采用高散熱石墨膜和石墨烯膜二者其一。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：所述的高散熱石墨膜的厚度在1微米～300微米之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：所述的散熱頁(yè)面還包括有用于固定高散熱膜的膜支架。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：所述的膜支架為金屬結(jié)構(gòu)，其表面設(shè)置有導(dǎo)熱陶瓷薄膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：高散熱石墨膜的固定方式為貼附在膜支架上，或者夾在膜支架上。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：所述的記憶樞的結(jié)構(gòu)是記憶合金結(jié)構(gòu)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：所述的記憶合金采用鎳鈦合金、金鉻合金、銅鋅合金中的至少其一。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：靠近著記憶樞位置的散熱頁(yè)面部分，高散熱膜延長(zhǎng)于膜支架之外。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種開(kāi)屏式高散熱體，其特征在于：在散熱頁(yè)面的最外側(cè)，設(shè)置有和記憶樞相連接的側(cè)保護(hù)層。