[實用新型]一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020676536.2
• 申請日: 2010-12-23
• 公開（公告）號: CN201881058U
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳力;張杰
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫榮興科技有限公司
• 主分類號: B23K26/42
• 分類號: B23K26/42
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務(wù)所 32104
• 代理人: 殷紅梅

1.一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，包括大理石平臺（11）和安裝在大理石平臺（11）下方的掩光裝置回轉(zhuǎn)臺，其特征是：所述掩光裝置回轉(zhuǎn)臺包括旋轉(zhuǎn)軸（20）、掩光裝置安裝基盤（18）和掩光板（25）；在所述大理石平臺（11）的下表面安裝旋轉(zhuǎn)電機（12），旋轉(zhuǎn)電機（12）的動力輸出端上連接旋轉(zhuǎn)軸（20），在所述旋轉(zhuǎn)軸（20）的下端安裝旋轉(zhuǎn)工作臺（15）；所述掩光裝置安裝基盤（18）通過滾動軸承（21）安裝在旋轉(zhuǎn)軸（20）上，在掩光裝置安裝基盤（18）上安裝三維調(diào)整滑臺（14），在三維調(diào)整滑臺（14）上固定掩光板（25）。

2.如權(quán)利要求1所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：所述滾動軸承（21）的軸承內(nèi)圈與旋轉(zhuǎn)軸（20）相連，軸承外圈通過軸承連接架（24）與掩光裝置安裝基盤（18）相連。

3.如權(quán)利要求1所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：所述掩光裝置回轉(zhuǎn)臺和工作臺（15）均可以圍繞旋轉(zhuǎn)軸（20）旋轉(zhuǎn)。

4.如權(quán)利要求1所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：在所述大理石平臺（11）的下方固定有重復定位機構(gòu)（13）。

5.如權(quán)利要求1所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：在所述旋轉(zhuǎn)軸（20）上套設(shè)有軸套（22）。

6.如權(quán)利要求1所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：所述旋轉(zhuǎn)工作臺（15）通過連接螺釘（23）固定在旋轉(zhuǎn)軸（20）的下端。

7.如權(quán)利要求1所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：在所述旋轉(zhuǎn)工作臺（15）上設(shè)有工件安裝臺（16）。

8.如權(quán)利要求4所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：所述重復定位機構(gòu)（13）由懸臂架（26）、球頭柱塞（27）、鎖緊螺母（28）、定位塊（29）和緊固螺釘（30）組成，所述旋臂架（26）套在電機上，由緊固螺釘（30）夾緊固定，在旋臂端的螺紋孔內(nèi)安裝球頭柱塞（27），旋轉(zhuǎn)球頭柱塞（27）可調(diào)整高度，且用鎖緊螺母（28）鎖死；球頭柱塞（27）前端的球頭卡在定位塊（29）的限位槽內(nèi)。

9.如權(quán)利要求8所述的一種同軸回轉(zhuǎn)的激光加工的掩光裝置，其特征是：所述定位塊（29）固定在所述的掩光裝置安裝基盤（18）上，其上開有限位槽。