[實用新型]一種化學機械研磨設備有效
| 申請號： | 201020673640.6 | 申請日： | 2010-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN201913543U | 公開（公告）日： | 2011-08-03 |
| 發明（設計）人： | 蔣莉;黎銘琦 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/04 | 分類號： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械 研磨 設備 | ||
1.一種化學機械研磨設備，用于研磨晶圓，其特征在于，包括：
轉臺，其上方固定放置所述晶圓，所述晶圓的待研磨面朝上；
研磨墊，其研磨面朝下；
研磨頭，其下方固定所述研磨墊，能夠帶動所述研磨墊旋轉；
研磨液供應管，設置于研磨頭或研磨墊上。
2.如權利要求1所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述研磨液供應管包括多個管道，均勻設置于所述研磨墊上。
3.如權利要求1所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述研磨液供應管設置于所述研磨墊外側的研磨頭上。
4.如權利要求1所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述研磨液供應管的直徑為1mm～3cm。
5.如權利要求1所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述研磨液供應管的流量為50ml/min～800ml/min。
6.如權利要求1所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述研磨墊為圓形，且尺寸小于、等于所述晶圓的尺寸。
7.如權利要求1所述的化學機械研磨設備，其特征在于，還包括
修整器，位于所述轉臺旁；
機械臂，其臂手下方固定所述研磨頭，能夠帶動所述研磨墊移動；
研磨墊更換裝置，位于所述轉臺旁，包括廢舊研磨墊收集裝置和新研磨墊供應裝置；
清洗裝置，設置于所述轉臺上方，包括去離子水噴管和研磨液噴管。
8.如權利要求7所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述機械臂與所述研磨頭之間還設置有壓力調節裝置，所述壓力調節裝置包括壓縮空氣噴頭、及設置于所述壓縮空氣噴頭上的壓力調節閥。
9.如權利要求7所述的化學機械研磨設備，其特征在于，所述新研磨供應裝置內放置新研磨墊，在所述新研磨墊供應裝置中設置有去離子水噴頭，噴水方向對向所述新研磨墊。
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