[實(shí)用新型]一種扣除光譜背景的裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201020670746.0 | 申請(qǐng)日: | 2010-12-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201964956U | 公開(公告)日: | 2011-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂全超;壽淼鈞;孫敬文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 聚光科技(杭州)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01J3/02 | 分類號(hào): | G01J3/02;G01J3/28;G01J3/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310052 浙*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 扣除 光譜 背景 裝置 | ||
1.一種扣除光譜背景的裝置,包括入射狹縫、光柵、出射狹縫和探測(cè)器,待測(cè)光通過入射狹縫后入射到光柵,被光柵分光后的待測(cè)光穿過出射狹縫,最后被探測(cè)器接收;其特征在于:
所述裝置還包括用于改變通過入射狹縫后的待測(cè)光在光柵上的入射角的調(diào)節(jié)件。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述入射狹縫包括第一組件,第一組件上具有至少兩個(gè)狹縫,第二組件上具有至少一個(gè)狹縫。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述裝置還包括當(dāng)在入射狹縫后方旋轉(zhuǎn)時(shí)而改變待測(cè)光行進(jìn)路線的玻片。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于:所述玻片至少為兩片,且設(shè)置在移動(dòng)部件上。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述調(diào)節(jié)件為移動(dòng)部件,入射狹縫設(shè)置在該移動(dòng)部件上。?
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