[實用新型]用于等離子體增強化學氣相沉積設備的多腔室氣路系統

無效

• 申請號: 201020653887.1
• 申請日: 2010-12-10
• 公開（公告）號: CN201971893U
• 公開（公告）日: 2011-09-14
• 發明（設計）人: 褚君浩;張傳軍;江錦春;莊春泉
• 申請（專利權）人: 上海太陽能電池研究與發展中心
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01L31/18
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

1.一種用于等離子體增強化學氣相沉積設備的多腔室氣路系統，包括：八種氣路，分別為H₂氣路(1)、Ar氣路(2)、CH₄氣路(3)、PH₃氣路(4)、SiH₄氣路(5)、GeH₄氣路(6)、TMB氣路(7)和NF₃氣路(8)，其特征在于：

在各自氣路的前進方向上設置有前級氣動擋板閥(10)；

所說的H₂氣路(1)和SiH₄氣路(5)在前級氣動擋板閥(10)后，分流成三支流氣路，這三支流氣路分別與P沉積腔(11)、I沉積腔(12)和N沉積腔(13)連接，在通向P沉積腔(11)、I沉積腔(12)和N沉積腔(13)的三支流氣路上分別依次設置有流量計(14)和后級氣動擋板閥(15)；

所說的NF₃氣路(8)在前級氣動擋板閥(10)后設置有流量計(14)，在其后分流成三支流氣路，這三支流氣路分別與P沉積腔(11)、I沉積腔(12)和N沉積腔(13)連接，在通向P沉積腔(11)、I沉積腔(12)和N沉積腔(13)的三支流氣路上設置有后級氣動擋板閥(15)；

所說的Ar氣路(2)在前級氣動擋板閥(10)后設置有流量計(14)，在其后分流成三支流氣路或四支流氣路；三支流氣路分別通過后級氣動擋板閥15與P沉積腔(11)、I沉積腔(12)和N沉積腔(13)連接；四支流氣路分別通過后級氣動擋板閥(15)與P沉積腔(11)、I沉積腔(12)、N沉積腔(13)和傳輸室(18)連接；

所說的CH₄氣路(3)、PH₃氣路(4)、GeH₄氣路(6)、TMB氣路(7)在各自的前級氣動擋板閥(10)后，依次設置有流量計(14)和后級氣動擋板閥(15)，而后CH₄氣路(3)與P沉積腔(11)連接，PH₃氣路(4)與N沉積腔(13)連接、GeH₄氣路(6)與I沉積腔(12)連接、TMB氣路(7)與P沉積腔(11)連接；

在CH₄氣路(3)、PH₃氣路(4)、SiH₄氣路(5)、GeH₄氣路(6)、TMB氣路(7)和NF₃氣路(8)的各前級氣動擋板閥(10)前通過三通依次連接有氣動擋板閥(18)和A單向閥(19)，并且并聯于Ar氣路(2)的前級氣動擋板閥(10)和流量計(14)之間；

在靠近八種氣源的入口處通過三通連接有手動擋板閥(9)，并且并聯通過B單向閥(16)與機械泵(17)連接。