[實用新型]精密位移傳感裝置有效
| 申請號: | 201020650890.8 | 申請日: | 2010-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN201885680U | 公開(公告)日: | 2011-06-29 |
| 發明(設計)人: | 楊斌堂 | 申請(專利權)人: | 上海交通大學 |
| 主分類號: | G01B7/02 | 分類號: | G01B7/02 |
| 代理公司: | 上海交達專利事務所 31201 | 代理人: | 王錫麟;王桂忠 |
| 地址: | 200240 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 精密 位移 傳感 裝置 | ||
1.一種精密位移傳感裝置,其特征在于,包括:固定框架、一個或多個受激勵變形體、一個或多個力變器、激勵體和約束導向機構,其中:受激勵變形體與力變器交錯設置且串聯連接于固定框架內,約束導向機構活動設置于固定框架內且平行于受激勵變形體與力變器,激勵體與約束導向機構固定連接,受激勵變形體的變形方向與力變器受力方向相一致。
2.根據權利要求1所述的精密位移傳感裝置,其特征是,所述的力變器為壓電材料體或壓電傳感器。
3.根據權利要求1所述的精密位移傳感裝置,其特征是,所述的受激勵變形體和固定框架之間設有偏置激勵體。
4.根據權利要求1所述的精密位移傳感裝置,其特征是,所述的激勵體為永磁激勵體、導磁激勵體或電磁激勵體。
5.根據權利要求1所述的精密位移傳感裝置,其特征是,所述的受激勵變形體和力變器之間設有激勵導引機構。
6.根據權利要求4或5所述的精密位移傳感裝置,其特征是,當激勵體為永磁激勵體時,所述的激勵導引機構為兩塊分別設置于受激勵變形體兩端的導磁體;當激勵體為導磁激勵體時,所述的激勵導引機構為分別設置于受激勵變形體兩端的偏置永磁式激勵體和導磁體或兩塊分別設置于受激勵變形體兩端的偏置永磁式激勵體。
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