[實用新型]一種用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置

有效

• 申請號: 201020636357.6
• 申請日: 2010-12-01
• 公開（公告）號: CN201966193U
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發明（設計）人: 凱文·皮爾斯
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）有限公司
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683
• 代理公司: 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249
• 代理人: 張靜潔;徐雯瓊

1.一種用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述保護裝置整體上呈現中空的環狀結構，其接觸于基片（40）外邊緣，并與所述基片（40）一起覆蓋在所述靜電吸盤（50）的頂部介電層（51）上；所述保護裝置的外徑不小于所述介電層（51）的外徑。

2.如權利要求1所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述保護裝置的高度與所述基片（40）的高度一致，使所述基片（40）嵌設在所述保護裝置中時，所述基片（40）底面與保護裝置的底面齊平，并在所述基片（40）放置到介電層（51）上時，使所述基片（40）的底面能與介電層（51）表面貼合。

3.如權利要求1所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述保護裝置是一柔性的薄膜（13）結構；所述薄膜（13）一端與所述基片（40）的上邊緣連接。

4.如權利要求3所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述薄膜（13）的另一端垂下，并在所述基片（40）底面的同一水平面上向外延伸，并有足夠的長度，使所述基片（40）與該薄膜（13）連接后在水平方向的長度，與所述介電層（51）的直徑一致。

5.如權利要求1所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，在真空處理腔室外，將所述保護裝置與所述基片（40）的外緣位置配合連接，并使該保護裝置與基片（40）的組合一起被放置到處理腔室內所述靜電吸盤（50）的介電層（51）上。

6.如權利要求1所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述保護裝置是由聚酰亞胺制成的。

7.一種用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述保護裝置是一形成在所述基片（40）底部的托護層（20）；所述托護層（20）直徑大于其上方的基片（40）直徑，并與所述靜電吸盤（50）頂部介電層（51）的直徑一致，使在所述基片（40）放置到介電層（51）上時，所述托護層（20）完全覆蓋所述介電層（51）表面。

8.如權利要求7所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述托護層（20）是由聚酰亞胺制成的。

9.一種用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述保護裝置是環繞所述基片（40）設置的聚焦環（30），其設置在所述介電層（51）上，接觸于所述基片（40）的邊緣位置；所述聚焦環（30）的縱截面呈直角梯形，所述直角梯形靠近介電層（51）中心的內側面（31）為斜坡面或弧面，與該內側面（31）相對的，所述直角梯形的外側面（32）與所述介電層（51）的外緣至少齊平。

10.如權利要求9所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述聚焦環（30）的內側面（31）底端到所述介電層（51）圓心的距離，小于所述基片（40）的半徑；使所述基片（40）放置在介電層（51）上時，對應放置在該聚焦環（30）內，并使該基片（40）的外邊緣僅僅覆蓋聚焦環（30）內側面（31）底端向外的一部分。

11.如權利要求10所述用于靜電吸盤邊緣保護的保護裝置，其特征在于，所述聚焦環（30）是由芳綸制成的。