[實(shí)用新型]一種痕量物質(zhì)分析裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201020635143.7 | 申請(qǐng)日： | 2010-11-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN202018423U | 公開(kāi)（公告）日： | 2011-10-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 魯通通;李勁松 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)計(jì)量學(xué)院 |
| 主分類號(hào)： | G01N21/31 | 分類號(hào)： | G01N21/31;G01N21/55;G01N21/21 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 痕量 物質(zhì) 分析 裝置 | ||
1.一種痕量物質(zhì)分析裝置，
其特征為：
a、包括電壓源、表面等離子體共振器、偏振態(tài)調(diào)節(jié)器、光電探測(cè)器、法-珀腔裝置和光源六部分；
b、法-珀腔裝置由第一透明導(dǎo)電膜、入射高反射膜、電光材料平板、出射高反射膜和第二透明導(dǎo)電膜五部分組成。
2.如權(quán)利要求1所述的一種痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的入射高反射膜和出射高反射膜的材料為鋁或金。
3.如權(quán)利要求1所述的一種痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的偏振態(tài)調(diào)節(jié)器位于表面等離子共振器前方。
4.如權(quán)利要求1所述的一種痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的第一透明導(dǎo)電膜層和入射高反射層相連，位于電光材料平板的左側(cè)，并且和電壓源的負(fù)極相連。
5.如權(quán)利要求1所述的一種痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的第二透明導(dǎo)電膜層和出射高反射層相連，位于電光材料平板的右側(cè)，并且和電壓源的正極相連。
6.如權(quán)利要求1所述的一種痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的光電探測(cè)器位于整個(gè)裝置最右側(cè)。?
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
