[實用新型]一種斜二測幾何畫板無效
| 申請號: | 201020609366.6 | 申請日: | 2010-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN202038063U | 公開(公告)日: | 2011-11-16 |
| 發明(設計)人: | 王旭 | 申請(專利權)人: | 王旭 |
| 主分類號: | B43L13/00 | 分類號: | B43L13/00;B43L13/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300040 *** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 斜二測 幾何 畫板 | ||
技術領域
本發明涉及一種文具附件,特別涉及一種斜二測幾何畫板。?
背景技術
斜二測畫法:?
從右/左上角往下看到的幾何圖形的的直觀圖的畫法,叫做斜二測畫法。每個垂直的夾角都應是135度,90度及45度,看不見的部分用虛線表示。?
斜二測畫法:?
建立適當的平面直角坐標系?
建立X’軸與Y‘軸成45°的坐標系?
平行于X軸的線段仍平行于X’軸,長度不變?
平行于Y軸的線段仍平行于Y‘軸但長度減半?
對于立體也就是三維圖形也有將X、Y軸均縮小為二分之根號二倍,交角45度或135度,Z軸的長度不變。?
人們平時進行斜二測作圖時,需要針對每個點先用量角器做出與點對應的Y’軸,再用刻度尺將已確定的Y軸點的Y’軸對應點依次描出,以出現量角的偏差,且逐個點依次使用量角器和刻度直尺操作繁雜,以至于耗時費力,還有很大的可能出現誤差。因此,不需要量角器的使用,直接地確定對應點,減少操作過程成為了該技術的核心發明點。?
目前,雖然已有畫板能夠根據幾何模型畫出斜二測圖形,但還存在單模型單圖形的局限性,不能夠解決普遍的廣泛的圖形便捷的斜二測畫法問題,適應范圍較窄。?
發明內容
本發明的目的在于克服上述不足之處,提供一種結構簡單輕巧、實用性強、應用范圍廣的斜二測幾何畫板。?
為實現上述目的本發明所采用的技術方案是:一種斜二測幾何畫板,其特征在于由板面、鏤空幾何圖形和板面中的底線及刻度線配合形成一體,所述板面即透明塑料板;所述鏤空幾何圖形具有一定的寬度,鏤空幾何圖形與所述板面底線形成相應的平面45度位置關系。?
本發明的有益效果是:該結構設計中透明的幾何畫板,最主要是為了使畫板底線能夠透過畫板與平面直角坐標系相重合。然后鏤空幾何圖形與畫板底線形成45度的平面位置關系,并在鏤空的邊緣配上刻度尺,從而達到了無需量角器的使用,直接根據兩個刻量數2∶1的關系定點的簡化作圖過程的目的。這正是區別于之前的定模型畫板的根本不同之處。該結構中的對稱設計,只需要倒轉畫板,就能夠達到斜左或斜右的作圖效果,以滿足不同的需要。另加量角器功能,以充分利用空間并為其他制圖提供了方便,且本尺支持刻度直尺功能,所以本尺幾乎滿足了基本作圖的需要,便于日常使用。本發明結構簡單,設計合理,造型輕巧,使用方便,成本低廉,適應范圍寬。該斜二測幾何畫板使使用者感到省時、省力,方便快捷,應用廣泛。?
廣泛的適用性、實用性及操作的簡單性、安全性既是本技術方案的顯著特征,也必將成為產品市場化的優勢。?
本發明將真正克服學生上課作圖慢的問題,達到提高人們做立體直觀圖的效率的目的,大大減少了作圖的過程中原來必需的瑣碎過程,從而便利了制圖這一枯燥的過程。?
附圖說明
圖1是本發明結構示意圖。?
圖中:1板面,2鏤空幾何圖形,3畫板底線及刻度線,4量角器。?
具體實施方式
以下結合附圖及較佳實施例,對依據本發明提供的具體實施方式、結構、特征詳述如下:?
如圖1所示,一種斜二測幾何畫板,由板面1、鏤空幾何圖形2和板面中?的畫板底線及刻度線3配合形成一體,所述板面1即透明塑料板;所述鏤空幾何圖形2具有一定的寬度,鏤空幾何圖形2與所述畫板底線及刻度線3形成相應的平面45度位置關系。其特征在于該結構設計中透明的幾何畫板,最主要是為了使畫板底線及刻度線3能夠透過畫板與平面直角坐標系相重合。然后鏤空幾何圖形2與畫板底線及刻度線3形成45度的平面位置關系,并在鏤空幾何圖形2的邊緣配上刻度尺,從而達到了無需量角器的使用,直接根據兩個刻量數2∶1的關系定點的簡化作圖過程的目的。這正是區別于之前的定模型畫板的根本不同之處。該結構中的對稱設計,只需要倒轉畫板,就能夠達到斜左或斜右的作圖效果,以滿足不同的需要。另加量角器4功能,以充分利用空間并為其他制圖提供了方便,且本尺支持刻度直尺功能,所以本尺幾乎滿足了基本作圖的需要,便于日常使用。?
使用時只需依次使用本畫板確定出特殊點,然后依次相連即可得斜二測畫法圖像。?
本發明適應范圍寬,使用非常簡單,省時省力,精準度高的效果非常顯著。?
上述參照實施例對斜二測幾何畫板進行的詳細描述,是說明性的而不是限定性的,可根據需要制成各種不同的規格,因此在不脫離本發明總體構思下的變化和修改,應屬本發明的保護范圍之內。?
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