[實(shí)用新型]曝光機(jī)邁拉膜漲緊框架無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201020588411.4 | 申請(qǐng)日： | 2010-11-03 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN201984283U | 公開(kāi)（公告）日： | 2011-09-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 白景文 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 北京郵電大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 100088 北京市*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 曝光 機(jī)邁拉膜漲緊 框架 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種曝光機(jī)邁拉膜漲緊框架，其包括有：外框架(1)、內(nèi)框架(2)，外框架(1)上開(kāi)設(shè)有內(nèi)凹槽(3)，其特征在于：內(nèi)凹槽(3)中鑲嵌有封條(4)，內(nèi)框架(2)位于外框架(1)內(nèi)側(cè)，內(nèi)框架(2)上活動(dòng)聯(lián)接有若干頂絲(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝光機(jī)邁拉膜漲緊框架，其特征在于：外框架(1)的內(nèi)沿上開(kāi)設(shè)有若干與頂絲(5)對(duì)應(yīng)的凹洞(8)，頂絲(5)的外端通過(guò)頂簧(6)觸聯(lián)凹洞(8)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝光機(jī)邁拉膜漲緊框架，其特征在于：在外框架(1)的內(nèi)沿上還聯(lián)接有若干導(dǎo)柱(7)，導(dǎo)柱(7)活動(dòng)穿插于內(nèi)框架(2)上相對(duì)應(yīng)開(kāi)設(shè)的導(dǎo)孔(9)中。?
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
