[實用新型]硅片清洗廢水回用裝置

無效

• 申請號: 201020570408.X
• 申請日: 2010-10-21
• 公開（公告）號: CN201882932U
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發明（設計）人: 王秦偉;楊樂;何勤忠
• 申請（專利權）人: 高佳太陽能股份有限公司
• 主分類號: C02F1/00
• 分類號: C02F1/00
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所 32104
• 代理人: 曹祖良

技術領域

本實用新型涉及光伏產業的硅片清洗機，具體地說是一種硅片清洗廢水回用裝置。

背景技術

在太陽能生產企業的硅片生產中，切割完的硅片要經過多級清洗，去除附著在硅片表面的砂漿、油污、灰塵等附著物，以滿足后道工序的加工工藝要求。目前所用的硅片清洗機為多級槽式清洗機，一般由九個清洗槽組成，使用階梯式槽位設計，并將后面五個槽的排放廢水部分用于前面的一到四槽的補水，實現了排放廢水的部分回用，但是廢水回用率不足10%，而且增加了每臺清洗機的制造成本。

發明內容

本實用新型針對上述問題，提供一種硅片清洗廢水回用裝置，該裝置可充分利用清洗機排放的廢水，成本低。

按照本實用新型的技術方案：一種硅片清洗廢水回用裝置，包括回用水蓄水池、增壓水泵、壓力水罐及脫膠機蓄水槽；所述回用水蓄水池與回用水進水管相連通，所述回用水蓄水池通過抽水管與所述增壓水泵相連通，所述增壓水泵通過壓力水罐進水管與所述壓力水罐相連通，所述壓力水罐通過壓力水罐出水管與第一電磁閥相連通，所述第一電磁閥通過回用水補水管與所述脫膠機蓄水槽相連通，所述脫膠機蓄水槽與自來水補水管相連通，所述自來水補水管上設置有第二電磁閥；所述回用水蓄水池內設置有第一液位傳感器，所述壓力水罐上設置有壓力傳感器，所述第一液位傳感器及所述壓力傳感器與所述增壓水泵的電控器電連接；所述脫膠機蓄水槽內設置有第二液位傳感器，所述第二液位傳感器與所述第一電磁閥及所述第二電磁閥電連接。

所述回用水蓄水池低于地面。

所述回用水進水管上設置有濾網。

所述回用水蓄水池上設置有溢流口。

所述壓力傳感器的上限值為0.3MPa，其下限值為0.2MPa。

本實用新型的技術效果在于：本實用新型可充分利用清洗機排放的廢水供脫膠機使用，提高了廢水回用率，能夠有效節約生產用水，減少廢水排放；本實用新型還可以省去清洗機和脫膠機自帶的廢水回用裝置，在節約生產成本的同時也可節約設備成本。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步的說明。

圖1中，包括回用水蓄水池1、回用水進水管11、濾網12、第一液位傳感器13、溢流口14、抽水管15、增壓水泵2、壓力水罐3、壓力水罐進水管31、壓力傳感器32、壓力水罐出水管33、脫膠機蓄水槽4、第一電磁閥41、回用水補水管42、第二液位傳感器43、第二電磁閥44、自來水補水管45等。

如圖1所示，本實用新型是一種硅片清洗廢水回用裝置，包括回用水蓄水池1、增壓水泵2、壓力水罐3及脫膠機蓄水槽4。

回用水蓄水池1低于地面。回用水蓄水池1與回用水進水管11相連通，回用水進水管11上設置有濾網12，濾網12起過濾作用。硅片清洗機排放的廢水通過回用水進水管11采用自流方式直接排放到回用水蓄水池1。回用水蓄水池1上設置有溢流口14，如果超過最高液位就通過溢流口14排出。

回用水蓄水池1通過抽水管15與增壓水泵2相連通，增壓水泵2通過壓力水罐進水管31與壓力水罐3相連通，壓力水罐3通過壓力水罐出水管33與第一電磁閥41相連通，第一電磁閥41通過回用水補水管42與脫膠機蓄水槽4相連通，脫膠機蓄水槽4與自來水補水管45相連通，自來水補水管45上設置有第二電磁閥44。

回用水蓄水池1內設置有第一液位傳感器13，壓力水罐3上設置有壓力傳感器32，第一液位傳感器13及壓力傳感器32與增壓水泵2的電控器電連接。增壓水泵2由第一液位傳感器13及壓力傳感器32共同控制，將回用水蓄水池1中的回用水打入壓力水罐3中。

脫膠機蓄水槽4內設置有第二液位傳感器43，第二液位傳感器43與第一電磁閥41及第二電磁閥44電連接。由第二液位傳感器43控制第一電磁閥41及第二電磁閥44的打開，通過回用水補水管42、自來水補水管45向脫膠機蓄水槽4內補水。

壓力傳感器32的上限值為0.3MPa，其下限值為0.2MPa。