[實用新型]折射儀光學原理演示系統有效
| 申請號: | 201020562981.6 | 申請日: | 2010-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN201845485U | 公開(公告)日: | 2011-05-25 |
| 發明(設計)人: | 廖任慶;徐思海;李勛貴 | 申請(專利權)人: | 深圳技師學院 |
| 主分類號: | G09B23/22 | 分類號: | G09B23/22 |
| 代理公司: | 深圳市科吉華烽知識產權事務所 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 折射 光學 原理 演示 系統 | ||
1.一種折射儀光學原理演示系統,包括儀器底座(1)、光源、透鏡,其特征在于:所述光源為激光單色光源,還包括遮光蓋(2)、反射鏡(3)、標尺(4),所述儀器底座(1)設有透明的觀察面,所述遮光蓋(2)與所述儀器底座(1)配合構成密封腔體,所述光源、透鏡、反射鏡、標尺的位置滿足如下關系:光線從光源發出,經過透鏡,發生全反射時反射光線經過反射鏡,經過反射鏡反射的光線射到標尺上。
2.根據權利要求1所述的折射儀光學原理演示系統,其特征在于:包括調節光源入射角度的支架,所述支架在儀器底座(1)外設有調節扭。
3.根據權利要求1所述的折射儀光學原理演示系統,其特征在于:所述透鏡為高折射率棱鏡。
4.根據權利要求2所述的折射儀光學原理演示系統,其特征在于:所述透鏡為高折射率棱鏡。
5.根據權利要求1至4任意一項所述的折射儀光學原理演示系統,其特征在于:所述標尺為正面磨砂面板的標尺,所述標尺設有讀取折射率值的刻度。
6.根據權利要求1至4任意一項所述的折射儀光學原理演示系統,其特征在于:所述遮光蓋(2)與所述儀器底座(1)配合構成密封腔體為霧化內腔。
7.根據權利要求5所述的折射儀光學原理演示系統,其特征在于:所述遮光蓋(2)與所述儀器底座(1)配合構成密封腔體為霧化內腔。
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