[實用新型]用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構

無效

• 申請號: 201020547566.3
• 申請日: 2010-09-29
• 公開（公告）號: CN201826013U
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發明（設計）人: 王國斌;朱建軍;邱凱;張永紅
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述氣體墻結構包括外管(2)和內管，內管設置在外管內腔中，且內管外壁和外管內壁之間留有均勻間隙，該間隙與設置在外管上的一個以上進氣口(1)連通，所述內管上沿軸向還分布復數個連通內管內腔和所述均勻間隙的氣隙結構；

其中，每一氣隙結構包括沿周向均勻分布的兩個以上進氣縫隙(4)、一環形延伸壁(7)和一環形導流壁(6)，所述延伸壁(7)和導流壁(6)沿進入該氣隙結構的氣流運動方向依次分布在內管內腔中，所述延伸壁(7)一端固定在內管內壁上，另一端蓋過進氣縫隙(4)，并與進氣縫隙(4)、內管內壁共同構成氣流通道，所述導流壁(6)為設置在內管內壁上的環形傾斜面，該傾斜面自其靠近進氣縫隙(4)的一端起向內管中心處傾斜。

2.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述延伸壁(7)另一端位于進氣縫隙(4)和導流壁(6)之間。

3.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述進氣口(1)為一個，其設置在外管(2)的中部。

4.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述進氣口(1)為兩個以上，其均勻分布在外管(2)上。

5.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述進氣口(1)為一個，其設置在外管(2)的一側，且沿氣流運行方向，外管與內管之間的間隙逐漸減小。

6.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述內管包括復數個內部單元管(3)，相鄰兩個內部單元管按照首尾相接的方式依次排布，且每一內部單元管(3)首端部沿周向均勻設置二個以上進氣縫隙(4)，尾端部設置延伸壁(7)，且進氣縫隙(4)與延伸壁之間的管體內壁上設置導流壁(6)。

7.根據權利要求1所述的用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述每一內部單元管(3)的首端部設置內螺紋(5)，尾端部設置外螺紋(8)，相鄰兩個內部單元管(3)的首端部與尾端部以所述內螺紋(5)和外螺紋(8)固定組接。

8.根據權利要求1或6所述的用于化學氣相沉積設備中的氣體墻結構，其特征在于：所述的進氣縫隙(4)為條狀或帶狀。