[實用新型]還原爐噴嘴可調結構

有效

• 申請號: 201020544984.7
• 申請日: 2010-09-27
• 公開（公告）號: CN201809174U
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發明（設計）人: 趙建;潘宇輝;錢偉達;朱敏
• 申請（專利權）人: 江蘇雙良鍋爐有限公司
• 主分類號: C01B33/027
• 分類號: C01B33/027
• 代理公司: 江陰市同盛專利事務所 32210
• 代理人: 唐紉蘭

(一)技術領域

本實用新型涉及一種還原爐，具體涉及一種多晶硅行業大型還原爐噴嘴可調結構。屬于多晶硅的生產設備技術領域。

(二)背景技術

全球太陽能的開發和利用帶動了光伏產業的快速發展，同時世界集成電路市場近年來穩步增長，多晶硅做為光伏產業和半導體產業的基礎材料，是發展信息產業和新能源產業的重要基石。

還原爐做為多晶硅生產的核心設備，對多晶硅的生產起著極其重要的作用，還原爐的噴嘴又是還原爐的進料的咽喉，目前國內外爐型配備的噴嘴普遍存在如下問題：

1、噴嘴高度無法調節。

2、噴嘴流速無法調節。

3、進氣無法達到還原爐頂部，造成硅棒生長下粗上細不均勻。

(三)發明內容

本實用新型的目的在于克服上述不足，提供一種噴嘴高度和流速可調、進氣可以達到還原爐頂部的還原爐噴嘴可調結構。

本實用新型的目的是這樣實現的：一種還原爐噴嘴可調結構，包括噴頭組件和接管，所述噴頭組件包括噴頭座和噴頭，噴頭與噴頭座一端的內孔螺紋連接，噴頭座另一端的外緣與接管一端的內孔螺紋連接，所述噴頭外緣開設有多條螺旋槽。

本實用新型的有益效果是：

1、由于不同爐型對噴嘴高度要求不同，通過設置接管，可以實現噴嘴高度的調節，只需更換不同長度的接管，即可滿足各種爐型的需求。

2、通過設置噴頭，可以任意更換不同中心孔直徑(D)大小的噴頭，進而控制進料流速。實現對噴嘴流速的調節，滿足不同爐型的要求。

3、針對原有噴嘴進氣無法達到還原爐頂部，采用了螺旋進氣原理，在噴頭的外側設置螺旋槽，進氣經過螺旋線帶動中心孔的進氣旋轉，使進氣螺旋上升，順利達到爐筒頂部；又因為可以根據進氣要求更換不同螺旋槽尺寸(B，H)的噴頭，進而控制旋轉速度。

通過上述噴嘴結構調節，可以最大限度的滿足還原爐的不同進料要求，實現還原爐的硅棒均勻快速生長，提高多晶硅的收率。

(四)附圖說明

圖1為本實用新型還原爐噴嘴可調結構示意圖。

圖2為本實用新型的噴頭組件結構示意圖。

圖3為本實用新型的噴頭結構示意圖。

圖4為圖3的俯視圖。

圖5為圖3的外緣展開圖。

圖6為圖5的A-A旋轉圖。

圖中附圖標記：

噴頭組件1、噴頭座1-1、噴頭1-2、螺旋槽1-2-1；

接管2。

(五)具體實施方式

參見圖1，圖1為本實用新型還原爐噴嘴可調結構示意圖。由圖1可以看出，本實用新型還原爐噴嘴可調結構，由噴頭組件1和接管2組成。噴頭組件1螺紋連接在接管2的一端。

參見圖2，圖2為本實用新型的噴頭組件結構示意圖。由圖2可以看出，所述噴頭組件1由噴頭座1-1和噴頭1-2組成。噴頭1-2與噴頭座1-1一端的內孔螺紋連接，噴頭座1-1另一端的外緣與接管2一端的內孔螺紋連接，如圖1。

參見圖3～6，圖3為本實用新型的噴頭結構示意圖。圖4為圖3的俯視圖。圖5為圖3的外緣展開圖。圖6為圖5的A-A旋轉圖。由圖3～6可以看出，所述噴頭1-2外緣開設有多條螺旋槽1-2-1。