[實用新型]磁控濺射真空鍍膜機組

無效

• 申請號: 201020533899.0
• 申請日: 2010-09-14
• 公開（公告）號: CN201801582U
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 章新良;彭為報;崔介東;龔瑞
• 申請（專利權）人: 普樂新能源(蚌埠)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.磁控濺射真空鍍膜機組，包括依次相連的入端大氣真空轉換室、入端真空過渡室、入端真空緩沖室、真空鍍膜室、出端真空緩沖室、出端真空過渡室、出端大氣真空轉換室，入端大氣真空轉換室的進口設置真空門閥，出端大氣真空轉換室的出口設置真空門閥，入端大氣真空轉換室與入端真空過渡室之間、入端真空過渡室與入端真空緩沖室之間、出端真空緩沖室與出端真空過渡室之間、出端真空過渡室與出端大氣真空轉換室之間均設置真空門閥，入端真空緩沖室、真空鍍膜室、出端真空緩沖室依次連通，入端大氣真空轉換室與第一真空泵組相接，入端真空過渡室、入端真空緩沖室、真空鍍膜室、出端真空緩沖室、出端真空過渡室均與第二真空泵組相接，出端大氣真空轉換室與第三真空泵組相接，所述的每個室內按照同一軸線排布的方式設置分段傳動總成，真空鍍膜室中至少裝有兩對濺射靶，它們順著分段傳動總成的排布方向布置且相對錯開排列，其特征在于：入端大氣真空轉換室的真空門閥之外設置與分段傳動總成相垂直的第一玻璃轉運裝置，出端大氣真空轉換室的真空門閥之外設置與分段傳動總成相垂直的第二玻璃轉運裝置，第一玻璃轉運裝置的一端與入端大氣真空轉換室的真空門閥之間相互間隔，第二玻璃轉運裝置的一端與出端大氣真空轉換室的真空門閥之間相互間隔，第一玻璃轉運裝置和第二玻璃轉運裝置的另一端之間有與分段傳動總成相平行的行走軌道。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射真空鍍膜機組，其特征在于：

本機組還包括呈方形布置的第一過渡臺、第二過渡臺、第三過渡臺、第四過渡臺；

第一過渡臺處于第一玻璃轉運裝置的一端與入端大氣真空轉換室的真空門閥之間，第一過渡臺分別與第一玻璃轉運裝置的一端、入端大氣真空轉換室的真空門閥相互間隔，第一過渡臺與分段傳動總成共同一軸線；

第二過渡臺處于第二玻璃轉運裝置的一端與出端大氣真空轉換室的真空門閥之間，第二過渡臺分別與第二玻璃轉運裝置的一端、出端大氣真空轉換室的真空門閥相互間隔，第二過渡臺與分段傳動總成共同一軸線；

第三過渡臺處于第一玻璃轉運裝置的另一端與行走軌道的一端之間，第三過渡臺分別與第一玻璃轉運裝置的另一端、行走軌道的一端相互間隔，第三過渡臺與分段傳動總成相平行；

第四過渡臺處于第二玻璃轉運裝置的另一端與行走軌道的另一端之間，第四過渡臺分別與第二玻璃轉運裝置的另一端、行走軌道的另一端相互間隔，第四過渡臺與分段傳動總成相平行。