[實用新型]非接觸式面內位移測量裝置

有效

• 申請號: 201020291433.4
• 申請日: 2010-08-13
• 公開（公告）號: CN201811726U
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發明（設計）人: 劉大亮;吳速;唐文彥;楊長江;崔厚欣
• 申請（專利權）人: 北京時代之峰科技有限公司
• 主分類號: G01B21/00
• 分類號: G01B21/00;G01B21/02;G01B11/00;G01B11/02
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 何春蘭

1.一種非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，所述測量裝置包括：

運動跟蹤機構，其包括標尺和至少一個傳動機構；

至少一個測量單元，所述測量單元的數量與傳動機構的數量相同，每個測量單元包括相互對應的一個跟蹤測頭和一個測量測頭，被測物體對應地設置在所述跟蹤測頭的一側，所述標尺對應地設置在所述測量測頭的一側，每個測量單元通過所對應的傳動機構能上下移動設置。

2.如權利要求1所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，每個所述傳動機構包括絲杠和滑塊，所述跟蹤測頭和測量測頭分別連接在所述滑塊的兩端，所述滑塊可上下移動地連接在所述絲杠上。

3.如權利要求2所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，所述測量單元為兩個，所述兩個測量單元上下相對設置；所述傳動機構為兩個，其分別帶動所述兩個測量單元上下移動。

4.如權利要求2所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，所述運動跟蹤機構還包括支撐底座和導軌，所述導軌固定設置在所述支撐底座上，所述標尺設置在所述支撐底座上，所述絲杠支撐在支撐底座上。

5.如權利要求4所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，所述導軌具有兩個立架和一個橫架，所述兩個立架的頂部分別連接在所述橫架的兩端，其底部固定連接在所述支撐底座上。

6.如權利要求5所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，所述橫架上設置有與所述絲杠相對應的定位孔，所述絲杠可轉動地穿設在所述定位孔中。

7.如權利要求6所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，所述絲杠的一端連接有能帶動絲杠轉動的驅動源。

8.如權利要求1所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，所述標尺與所述測量測頭相對的表面為光學粗糙表面。

9.如權利要求1至8任意一項所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，每個所述跟蹤測頭和每個所述測量測頭均包括激光器和圖像傳感器，所述圖像傳感器位于所述激光器在所述被測物體或標尺的反射光束線上，所述圖像傳感器的光軸與所述激光器的光軸均與所述被測物體或標尺的表面法線成銳角布置。

10.如權利要求9所述的非接觸式面內位移測量裝置，其特征在于，每個所述跟蹤測頭和每個所述測量測頭還包括擴束鏡、準直透鏡和成像透鏡，沿著所述激光器的光軸方向依序設置有所述擴束鏡和所述準直透鏡，沿著所述激光器的反射光方向依序設置有所述成像透鏡和所述圖像傳感器。