[實用新型]ESI源質譜儀中鞘氣的流經加熱裝置

有效

• 申請號: 201020281329.7
• 申請日: 2010-08-04
• 公開（公告）號: CN201788167U
• 公開（公告）日: 2011-04-06
• 發明（設計）人: 劉召貴;周春彗;潘翔
• 申請（專利權）人: 江蘇天瑞儀器股份有限公司
• 主分類號: G01N27/68
• 分類號: G01N27/68
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 樓高潮

技術領域

本實用新型涉及質譜儀領域，具體的涉及一種用于質譜儀加熱系統的鞘氣流經加熱裝置。

背景技術

質譜儀是一種用于檢測物質化學成分的高靈敏度、高分辨率的儀器，它首先將樣品轉換成氣態離子，然后通過電場或磁場將離子按照質荷比(m/z)的大小進行分離，再測量出離子的強度形成質譜圖，根據質譜圖可以定性或定量的得到物質化學成分。

電噴霧源(ESI)是質譜儀中離子源的一種，ESI由流動液體樣品的毛細管(噴霧針)、高壓電源、反向電極組成，通過高壓電場可以分離溶液中的正離子和負離子，例如在正離子模式下，電噴霧的噴霧針相對反向電極保持很高的正電位，負電荷離子被吸引到針的另一端，在半月形的液體表面聚集著大量的正電荷離子，它們之間相互排斥，并從針尖處的液體表面擴展出去，液體表面成錐形，稱為Taylor錐，隨著針尖處的液滴變小，電場強度逐漸增強，過剩的電荷克服表面張力形成纖細的小液滴，最終從Taylor錐的尖端濺射出來，小液滴的溶劑逐漸蒸發，電荷排斥力大于表面張力而發生裂解，經過多次裂解，產生了離子。電噴霧過程實質上是電泳過程。

在質譜的ESI源中，樣品溶液在高壓噴霧針噴出后，同時被鞘氣稀釋，形成帶電霧滴，在質譜入口反方向氣流的作用下，大部分的溶劑在到達質譜入口前就揮發了，形成更小的帶電微滴荷氣相離子。

為了提高樣品去溶劑的效果，在真空系統的入口前吹入切向的氣流，形成一個氣幕，這個氣幕能夠使中性的組份偏移真空系統的入口，還能夠帶走大部分的溶劑分子，尤其是當氣體的溫度較高而噴射的液滴比較小的時候，具有很好的去溶劑的作用。

根據液相質譜ESI源的原理結構，我們可以看到輔助鞘氣(高純N₂))起到非常重要的作用。高溫的氮氣可以讓已經離子化的氣體去溶劑的效果更好，因為溫度高溶劑容易氣化，而一定流速的氣能夠吹走大部分的中性粒子和特別大的液滴，能夠顯著的提高去溶劑率。

基于上述原因，針對該電噴霧質譜儀，急需研制一個溫度加熱和控制系統。

實用新型內容

為了克服現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種ESI源質譜儀中鞘氣的流經加熱裝置，該裝置可使鞘氣均勻的受熱，以提高去溶劑的效果。

為解決上述技術問題，實現上述技術效果，本實用新型采用如下技術方案：

一種ESI源質譜儀中鞘氣的流經加熱裝置，包括一加熱腔主體，所述加熱腔主體上設置有一通向所述加熱腔主體腔內的氣體流入管道，所述加熱腔主體的內壁開有一螺紋結構的軌道，所述螺紋結構的軌道通過軌道切口與一環形槽聯通，所述環形槽與所述氣體流入管道聯通。

進一步的，所述螺紋結構的軌道為多頭螺紋結構的螺旋軌道。

優選的，所述軌道切口為在軌道圓周方向成九十度進行分布的的四個缺口。

進一步的，所述軌道切口為所述螺紋結構的軌道的切入點。

本實用新型的工作原理及其優點如下：

高純的氮氣氣流通過所述氣體流入管道進入加熱腔主體，所述氮氣首先在環形槽里向前流動，然后從所述軌道切口的地方進入腔內，緊接著沿著螺紋螺旋向下。由于此處的螺紋是多頭的螺紋，在每個缺口的地方就是螺紋的切入點，從而保證了氣流均勻的進入，并沿著腔體的內壁螺旋下降。通過腔體把熱完全的傳遞給高純的氮氣，從而達有效加熱鞘氣，提高了去溶劑的效果。

本實用新型的裝置制作簡易方便，成本低廉，可推廣使用。

附圖說明

圖1是本實用新型的ESI源質譜儀中鞘氣的流經加熱裝置的結構示意圖。

圖中標號說明：1.加熱腔主體，2.氣體流入管道，3.螺紋結構的軌道，4.軌道切口，5.環形槽。

具體實施方式

下面結合附圖，對本實用新型的優選實施例進行詳細的介紹。

請參見圖1所示，一種ESI源質譜儀中鞘氣的流經加熱裝置，包括一加熱腔主體1，所述加熱腔主體1上設置有一通向所述加熱腔主體1腔內的氣體流入管道2，所述加熱腔主體1的內壁開有一螺紋結構的軌道3，所述螺紋結構的軌道3通過軌道切口4與一環形槽5聯通，所述環形槽5與所述氣體流入管道2聯通。

進一步的，所述螺紋結構的軌道3為多頭螺紋結構的螺旋軌道。

優選的，所述軌道切口4為在軌道圓周方向成九十度進行分布的的四個缺口。

進一步的，所述軌道切口4為所述螺紋結構的軌道3的切入點。

以上對本實用新型實施例所提供的裝置進行了詳細介紹，對于本領域的一般技術人員，依據本實用新型實施例的思想，在具體實施方式及應用范圍上均會有改變之處，因此凡依本實用新型設計思想所做的任何改變都在本實用新型的保護范圍之內。