[實用新型]涂布薄膜設備中防止樣品損壞的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201020248437.4 | 申請日： | 2010-06-25 |
| 公開（公告）號： | CN201892818U | 公開（公告）日： | 2011-07-06 |
| 發(fā)明（設計）人： | 吳俊明 | 申請（專利權(quán)）人： | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛崢;王麗琴 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 薄膜 設備 防止 樣品 損壞 裝置 | ||
1.一種涂布薄膜設備中防止樣品損壞的裝置，所述涂布薄膜設備包括樣品吸附裝置、樣品穩(wěn)固裝置和光刻膠處理裝置；其特征在于，該防止樣品損壞的裝置包括：
感應裝置，設置于所述樣品穩(wěn)固裝置下方，包括不同高度位置設置的上感應托盤、下感應托盤以及使所述上、下感應托盤分開的回復力裝置，所述下感應托盤固定設置在所述涂布薄膜設備中，所述上感應托盤可在所述樣品穩(wěn)固裝置重力的作用下，下降至與所述下感應托盤相緊靠的位置；
報警裝置，其與所述感應裝置相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述樣品為晶圓，所述樣品吸附裝置為可將晶圓吸住的吸附托架，所述樣品穩(wěn)固裝置為內(nèi)圈，所述光刻膠處理裝置為外圈。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述回復力裝置為彈簧。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述上、下感應托盤為兩個磁極相對、相互吸引的磁鐵。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述上、下感應托盤為兩個形狀相同的環(huán)形磁鐵。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述上、下感應托盤的厚度均為1-5毫米(mm)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述上、下感應托盤的外徑均為8-15毫米(mm)，內(nèi)徑均為3-5毫米(mm)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，在未安裝內(nèi)圈時，所述上、下感應托盤之間的距離為15-25毫米(mm)。?
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