[實(shí)用新型]低方阻金屬化膜無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201020247509.3 | 申請(qǐng)日： | 2010-07-01 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN201698901U | 公開（公告）日： | 2011-01-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周文;朱利平;湯小五;周越;劉榮春;吳華東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 安徽湖濱電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01G4/005 | 分類號(hào)： | H01G4/005;H01G4/015;H01G4/33 |
| 代理公司： | 銅陵市天成專利事務(wù)所 34105 | 代理人： | 程霏 |
| 地址： | 244000 *** | 國(guó)省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 低方阻 金屬化 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.低方阻金屬化膜，由聚丙烯介質(zhì)層[1]和蒸鍍?cè)陔娋郾┵|(zhì)層[1]表面的鋁層[2]組成，然后在鋁層[2]上蒸鍍上一層鋅鋁合金層[3]，所述鋅鋁合金層[3]的材料為鋅鋁合金，其中鋅占合金比重是30％，鋁占合金的比重是70％，該鋅鋁合金層[3]厚度為所蒸鍍的鋁層厚度的6-8倍，寬度為1-5mm，其特征在于所述鋅鋁合金層[3]位于所述鋁層[2]的中間位置，鋅鋁合金層[3]區(qū)域的方阻在3Ω/□以下。
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