[實用新型]一種用于測量套準精度的測量結構有效
| 申請號： | 201020246561.7 | 申請日： | 2010-06-30 |
| 公開（公告）號： | CN201740972U | 公開（公告）日： | 2011-02-09 |
| 發明（設計）人： | 朱駿 | 申請（專利權）人： | 上海集成電路研發中心有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 鄭瑋 |
| 地址： | 201210*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 測量 精度 結構 | ||
1.一種用于測量套準精度的測量結構，為中心軸對稱圖形，其特征在于，包括前層被對準結構和當前層對準結構兩部分，所述前層被對準結構相對所述當前層對準結構在X軸方向和Y軸方向上有偏移量。
2.如權利要求1所述的測量結構，其特征在于，所述前層被對準結構包括至少一條矩形圖形條。
3.如權利要求1所述的測量結構，其特征在于，所述當前層對準結構由光刻膠構成，所述當前層對準結構包括至少一條矩形圖形條。
4.如權利要求1所述測量結構，其特征在于，所述測量結構為正方形，分為橫向區域和縱向區域。
5.如權利要求4所述的測量結構，其特征在于，所述測量結構等分為四個區域，其中至少一個區域為橫向區域，至少一個為縱向區域。
6.如權利要求4或5所述的測量結構，其特征在于，在所述橫向區域內，所述前層被對準結構和所述當前層對準結構均與X軸平行，所述前層被對準結構相對于所述當前層對準結構有所述Y軸方向偏移量。
7.如權利要求6所述的測量結構，其特征在于，所述Y軸方向偏移量為-10000微米至+10000微米。
8.如權利要求4或5所述的測量結構，其特征在于，在所述縱向區域內，所述前層被對準結構和所述當前層對準結構均與Y軸平行，所述前層被對準結構相對于所述當前層對準結構有所述X軸方向偏移量。
9.如權利要求8所述的測量結構，其特征在于，所述X軸方向偏移量為-10000微米至+10000微米。
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