[實用新型]晶片盒清潔裝置有效
| 申請號： | 201020246443.6 | 申請日： | 2010-06-30 |
| 公開（公告）號： | CN201728204U | 公開（公告）日： | 2011-02-02 |
| 發明（設計）人： | 許亮 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號： | B08B5/02 | 分類號： | B08B5/02 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 20120*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 晶片 清潔 裝置 | ||
1.一種晶片盒清潔裝置，其特征在于，包括：工作臺、進氣管路、排氣管路、氣體供給裝置以及排風裝置，所述氣體供給裝置與所述進氣管路連接，所述排風裝置與所述排氣管路連接，所述工作臺包括一腔體，所述進氣管路與所述腔體連通形成進氣通道，所述排氣管路與所述腔體連通形成排氣通道。
2.如權利要求1所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，還包括設置于所述腔體內的隔板，所述隔板將所述腔體分為第一腔體和第二腔體，所述隔板上設置有吸塵孔，所述第一腔體和第二腔體通過所述吸塵孔連通。
3.如權利要求2所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，所述吸塵孔與水平面的夾角為10～80℃。
4.如權利要求2所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，所述隔板的材質是聚偏氟乙烯。
5.如權利要求1所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，還包括三向閥，所述三向閥包括第一閥口、第二閥口和第三閥口，所述第一閥口與所述進氣管路連接，所述第二閥口與所述排氣管路連接，所述第三閥口與所述工作臺連接。
6.如權利要求5所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，所述第三閥口通過一總管路與所述工作臺連接。
7.如權利要求5所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，還包括框架，所述工作臺設置于所述框架內，所述框架的頂部具有開口。
8.如權利要求7所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，所述進氣管路穿過所述框架與所述第一閥口連接，所述排氣管路穿過框架與所述第二閥口連接。
9.如權利要求1至8中任意一項所述的晶片盒清潔裝置，其特征在于，所述氣體供給裝置為氮氣供給裝置。
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