[實用新型]恒溫鍍槽

無效

• 申請號: 201020238563.1
• 申請日: 2010-06-28
• 公開（公告）號: CN201746601U
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發明（設計）人: 楊晶;張玉偉;姜志強
• 申請（專利權）人: 山東太古飛機工程有限公司
• 主分類號: C25D17/02
• 分類號: C25D17/02;C25D11/02
• 代理公司: 濟南泉城專利商標事務所 37218
• 代理人: 李桂存

技術領域

本實用新型涉及一種恒溫鍍槽。

背景技術

硼硫酸陽極氧化項目建設過程中，手冊對于氧化槽溶液溫控要求非常嚴格，溫度點為26.7±2.2℃。為維持由于環境溫度造成的溶液溫度偏離的補償，需要適時地對鍍槽進行加熱和冷卻，實現鍍槽的恒溫控制。

傳統的恒溫鍍槽采用電加熱棒加熱與循環冷凝管冷卻的恒溫控制方法，電加熱棒與冷凝管道都布置于鍍槽內，占用部分工作空間，且加熱棒和冷凝管處于腐蝕性溶液中，容易遭到溶液腐蝕損壞，容易污染溶液，且使電加熱棒的使用壽命大大降低，易產生線路漏電。

發明內容

因此，本實用新型針對目前恒溫鍍槽的上述缺陷，提供了一種不僅容易控制溫度，而且制造成本低，溫控部分使用壽命長的恒溫鍍槽。

本實用新型采用的技術方案為：

本實用新型恒溫鍍槽，包括鍍槽本體和對該鍍槽進行溫控的溫控裝置，所述溫控裝置包括均勻設置于渡槽本體外側面的半導體制冷片及配置于半導體制冷片的循環系統和控制電路，其中控制電路包括設置于鍍槽本體上的溫度探頭、連接該溫度探頭的溫控儀和該溫控儀輸出端子連接的控制半導體制冷片制冷或制熱的繼電器。

依據本實用新型技術方案的恒溫鍍槽把溫控裝置設置于不受鍍液侵蝕的鍍槽外側，從根本上解決鍍液腐蝕溫控設備的缺陷。另一方面，由于溫控設備不占據鍍槽本體的內部空間，也不怕待鍍設備的碰撞，整體上也可以延長溫控裝置的使用壽命，更不會污染鍍液，保證化學鍍的質量。

此外，半導體制冷片均勻的設置于鍍槽本體的外側，加熱或者制冷均勻，易于控制鍍槽的溫度。

上述恒溫鍍槽，所述鍍槽本體的外側設有隔熱層。

上述恒溫鍍槽，所述循環系統包括貼敷于半導體制冷片上的帶有內部水道的散熱片、連接所述內部水道的循環介質管路，以及配置在循環介質管路上的儲液箱、泵和冷卻風扇。

上述恒溫鍍槽，所述內部水道為S型水道。

上述恒溫鍍槽，所述繼電器包括用于制熱控制的第四繼電器和制熱控制的第三繼電器，第三和第四繼電器并聯于半導體制冷片的主電路上。

上述恒溫鍍槽，所述第三繼電器和第四繼電器間設有互鎖電路。

上述恒溫鍍槽，所述繼電器還包括直接接于所述溫控儀輸出端子的對應第三繼電器的第一繼電器和對應第四繼電器的第二繼電器，以及接于第一、第二繼電器下級的時間繼電器，時間繼電器驅動所述第三、第四繼電器。

上述恒溫鍍槽，所述隔熱層為聚氨酯泡沫材料層。

附圖說明

圖1為依據本實用新型技術方案的一種恒溫鍍槽原理圖。

圖2為橫溫鍍槽壁的橫剖結構示意圖。

圖3為控制電路的原理框圖。

圖中：1、鍍槽本體，2、半導體制冷片，3、循環介質管路，4、冷卻風扇，5、泵，6、儲液箱，7、隔熱層，8、散熱片，9、端蓋。

具體實施方式

參照說明附圖1和2，其示出了一種恒溫鍍槽，包括鍍槽本體1和對該鍍槽進行溫控的溫控裝置，所述溫控裝置包括均勻設置于渡槽本體外側面的半導體制冷片2及配置于半導體制冷片的循環系統和控制電路，其中控制電路包括設置于鍍槽本體上的溫度探頭、連接該溫度探頭的溫控儀和該溫控儀輸出端子連接的控制半導體制冷片制冷或制熱的繼電器。

為了防止鍍槽的熱量散逸，所述鍍槽本體的外側設有隔熱層7。當然，半導體制冷片在制冷狀態(內層制冷)下，其外層是制熱的，需要對其進行散熱。

進一步地，所述循環系統包括貼敷于半導體制冷片上的帶有內部水道的散熱片8、連接所述內部水道的循環介質管路3，以及配置在循環介質管路上的儲液箱6、泵5和冷卻風扇4，采用散熱片的風冷和水冷相結合的方式，以提高散熱效率。

優選地，所述內部水道為S型水道，以提高換熱面積，提高散熱效率。

優選地，為了更好的控制，所述繼電器包括用于制熱控制的第四繼電器和制熱控制的第三繼電器，第三和第四繼電器并聯于半導體制冷片的主電路上。當然，也可以采用轉換開關，進行簡易的控制，屬于一種可替換的控制方式

那么，為了使控制更可靠，所述第三繼電器和第四繼電器間設有互鎖電路。

同樣，為了使控制更可靠，所述繼電器還包括直接接于所述溫控儀輸出端子的對應第三繼電器的第一繼電器和對應第四繼電器的第二繼電器，以及接于第一、第二繼電器下級的時間繼電器，時間繼電器驅動所述第三、第四繼電器。尤其是時間繼電器的引入，在于溫控時溫度達到預定高值或者預定低值，鍍槽內還沒有達到相應溫度，通過時間延遲，可以達到對鍍槽內的鍍液客觀的控制目的。

優選地，所述隔熱層為聚氨酯泡沫材料層。