[實用新型]一種對填料塔中氣相進行二次分布的裝置無效
| 申請號： | 201020234591.6 | 申請日： | 2010-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN201701769U | 公開（公告）日： | 2011-01-12 |
| 發明（設計）人： | 趙華 | 申請（專利權）人： | 天津市華瑞奕博化工科技有限公司 |
| 主分類號： | B01D3/16 | 分類號： | B01D3/16;B01D53/18 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人： | 韓素琴 |
| 地址： | 300384 天津市南開*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 填料 中氣 進行 二次 分布 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種對填料塔中氣相進行二次分布的裝置，包括溢流堰，其特征是，所述的溢流堰內設置有氣相分布塔盤，所述的氣相分布塔盤與所述溢流堰的內壁之間構成降液管，所述氣相分布塔盤的下部設置有液相分布塔盤；所述的氣相分布塔盤上開有氣相通道，所述的液相分布塔盤上開有氣相通道和液相噴淋點。
2.根據權利要求1所述對填料塔中氣相進行二次分布的裝置，其特征是，所述氣相分布塔盤上氣相通道的數目和大小，根據液相流量設計。
3.根據權利要求1所述對填料塔中氣相進行二次分布的裝置，其特征是，所述液相分布塔盤上氣相通道和液相噴淋點的數目和大小，根據液相流量設計。
4.根據權利要求1所述對填料塔中氣相進行二次分布的裝置，其特征是，所述液相分布塔盤上氣相通道的高度根據液相流量設計。
5.根據權利要求1所述對填料塔中氣相進行二次分布的裝置，其特征是，所述液相分布塔盤上氣相通道的數目和大小，根據液相流量設計。
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