[實用新型]改進的噴嘴結構有效
申請號: | 201020233721.4 | 申請日: | 2010-06-21 |
公開(公告)號: | CN201692889U | 公開(公告)日: | 2011-01-05 |
發明(設計)人: | 吳俊龍 | 申請(專利權)人: | 華景電通股份有限公司 |
主分類號: | B05B1/06 | 分類號: | B05B1/06;B05B1/34 |
代理公司: | 北京市浩天知識產權代理事務所 11276 | 代理人: | 劉云貴 |
地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 改進 噴嘴 結構 | ||
1.一種改進的噴嘴結構,其特征在于,包含噴嘴本體,該噴嘴本體包括上部、頸部及貫孔,該上部呈漏斗狀并向下朝內逐漸內縮,該頸部接續于該上部并由該上部向下延伸,該貫孔貫穿該上部與該頸部,該上部并包含頂面,該頂面朝向該貫孔凸伸有復數個凸緣,每一凸緣之間并彼此間隔出一流道,這些流道連通于該貫孔。
2.如權利要求1所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該復數個凸緣以等角度環繞朝向該貫孔凸伸。
3.如權利要求2所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該復數個凸緣的數量為八個并彼此間隔出八個流道。
4.如權利要求3所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該復數個凸緣的每一個的橫向寬度為2mm。
5.如權利要求2所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該復數個凸緣的數量為三個并彼此間隔出三個流道。
6.如權利要求5所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該復數個凸緣的每一個的橫向寬度是為2mm。
7.如權利要求1至6任一項所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該復數個凸緣的每一個分別包含前端,且兩相鄰凸緣的前端相距的間隔為1mm。
8.如權利要求7所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該噴嘴本體為抗靜電硅膠噴嘴本體。
9.如權利要求8所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該頸部并凹設有環凹槽。
10.如權利要求7所述的改進的噴嘴結構,其特征在于,該貫孔的直徑為10mm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華景電通股份有限公司,未經華景電通股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201020233721.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種淋浴蓬頭
- 下一篇:防干擾光控監測電路結構及具有該電路結構的碎紙機