[實用新型]隔離裝置、激光器及激光打標機

有效

• 申請號: 201020233573.6
• 申請日: 2010-06-18
• 公開（公告）號: CN201820037U
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發明（設計）人: 徐方華;呂啟濤;蔡元平;高云峰
• 申請（專利權）人: 深圳市大族激光科技股份有限公司
• 主分類號: G02B27/28
• 分類號: G02B27/28;H01S3/10;H01S3/02;H01S3/16;B41J2/44
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 何平

【技術領域】

本實用新型涉及一種激光加工裝置，尤其涉及一種隔離裝置、激光器以及激光打標機。

【背景技術】

端面泵浦Nd:YVO₄激光打標機在對不銹鋼鋼板(待加工工件)上進行標記時，激光器發出激光，經過F-θ鏡頭后入射到不銹鋼鋼板上，對不銹鋼鋼板進行標記。

但是，打標時不銹鋼鋼板會反射一部分激光，反射激光沿與入射光路相反光路，經過F-θ鏡頭等返回進入激光腔體，干擾激光器，使激光器輸出激光不穩定，導致在F-θ鏡頭正下方的不銹鋼鋼板上一部分區域(一般呈圓形)的標記斑跡不均勻，極大影響了標記的填充效果和整體形象，降低了標記效果。

通常，為避免該現象，消除該不均勻斑跡，必須避開F-θ鏡頭正下方進行打標，從而使實際可標記幅面減小，限制了大幅面打標的應用。

【實用新型內容】

基于此，有必要提供一種對反射激光進行隔離、消除不均勻斑跡、提高標記效果的隔離裝置。

此外，還提供一種對反射激光進行隔離、消除不均勻斑跡、提高標記效果的激光器和激光打標機。

一種隔離裝置，包括沿激光出射光路依次設直，將待加工工件反射回的反射激光反射出激光光路，對反射激光進行隔離的檢偏器和四分之一波片。

優選的，所述檢偏器包括第一偏振片和第二偏振片，所述第一偏振片和第二偏振片以布儒斯特角放置。

優選的，所述檢偏器和四分之一波片與在所述四分之一波片之后沿激光出射光路依次設置的擴束鏡、振鏡片以及F-θ鏡頭組成隔離系統。

優選的，所述隔離裝置安裝在激光器外殼內部，作為激光器組成部分。

一種激光器，包括殼體、殼體內的激光器輸出鏡，還包括設置在殼體內，沿激光出射光路放置在所述激光器輸出鏡之后，對待加工工件反射回的反射激光進行隔離的隔離裝置；所述隔離裝置包括沿激光出射光路依次設置的檢偏器和四分之一波片。

優選的，所述檢偏器包括第一偏振片和第二偏振片，所述第一偏振片和第二偏振片以布儒斯特角放置。

一種激光打標機，包括沿激光出射光路依次設置的激光器、擴束鏡、振鏡片以及F-θ鏡頭，所述激光器包括殼體、殼體內的激光器輸出鏡，所述激光器還包括設置在殼體內，沿激光出射光路放置在所述激光器輸出鏡之后，對待加工工件反射回的反射激光進行隔離的隔離裝置；所述隔離裝置包括沿激光出射光路依次設置的檢偏器和四分之一波片。

優選的，所述檢偏器包括第一偏振片和第二偏振片，所述第一偏振片和第二偏振片以布儒斯特角放置。

上述隔離裝置、激光器以及激光打標機，通過采用檢偏器和四分之一波片將待加工工件反射的反射激光反射出激光加工光路，使反射激光無法通過檢偏器達到激光器激光腔，對反射激光進行隔離，從而使反射激光無法對激光器激光腔造成干擾，保證激光器激光腔出射激光的穩定，消除標記斑跡不均勻的現象，增強標記的填充效果和整體形象，提高了標記效果。

【附圖說明】

圖1是一個實施例中隔離裝置結構示意圖；

圖2是一個實施例中隔離裝置工作示意圖。

【具體實施方式】

下面結合附圖，對本實用新型的具體實施方式進行詳細描述。

圖1是一個實施例中隔離裝置結構示意圖。該隔離裝置將待加工工件反射的反射激光全部反射出激光光路，對反射激光進行隔離，其包括沿激光出射光路設置的檢偏器110和四分之一波片120。

該實施例中，檢偏器110包括第一偏振片112和第二偏振片114。第一偏振片112和第二偏振片114以布儒斯特角進行放置。經過檢偏器110的出射激光經過四分之一波片120后再經過待加工工件反射再經過四分之一波片120，偏振特性發生兩次改變，到達第一偏振片112和第二偏振片114時，按照布儒斯特定律被反射出激光光路。

圖2是一個實施例中隔離裝置工作示意圖。結合圖1，該實施例中，隔離裝置工作時，沿激光出射光路設置在激光器200外殼201內部，激光器輸出鏡210的后方，作為激光器200的一部分。沿激光出射光路，在激光器200外殼201之后還設置擴束鏡220、振鏡片230以及F-θ鏡頭240組成隔離系統。激光器200出射激光經過激光器輸出鏡210、隔離裝置、擴束鏡220、振鏡片230以及F-θ鏡頭240后入射到待加工工件300表面進行打標。

該實施例中，假設激光器200出射激光為S偏振的線偏振光，以S偏振的線偏振光對隔離裝置的工作原理進行闡述。