[實用新型]用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的卸料槽裝置

有效

• 申請號: 201020232139.6
• 申請日: 2010-06-17
• 公開（公告）號: CN201728723U
• 公開（公告）日: 2011-02-02
• 發明（設計）人: 唐志勇;葉進發;楊佳琛
• 申請（專利權）人: 福建火炬電子科技股份有限公司
• 主分類號: B28B1/32
• 分類號: B28B1/32;B28B17/00
• 代理公司: 廈門市首創君合專利事務所有限公司 35204
• 代理人: 李秀梅

技術領域

本實用新型涉及用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的設備，特別是指用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的卸料槽裝置。

背景技術

CN101197209A公開了一種利用幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的方法和裝置，該裝置在工作時，通過泵使漿液從儲存罐運送到料斗，漿液從料斗的淋膜頭上垂直流下形成連續淋幕，流下的漿液落入卸料槽，并由卸料槽輸送到儲存罐，實現循環使用。但是，在該專利申請中，卸料槽的結構設計不夠合理，漿液回流速度不易控制，而容易造成瓷漿溢出現象。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于克服現有技術的缺點，提供用于用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的卸料槽裝置，可避免漿液回流過程中的溢出現象出現。

本實用新型采用如下技術方案：

用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的卸料槽裝置，包括槽體，該槽體的底部傾斜，在該傾斜的槽體底部形成較淺的第一槽底和較深的第二槽底，在該第二槽底上設有一出料口。

所述槽體為長條狀。

所述出料口設于所述第二槽底的側壁。

由上述對本實用新型的描述可知，與現有技術相比，本實用新型用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的卸料槽裝置具有如下有益效果：

槽體的底部傾斜，漿液在回流過程中，首先落到較淺的第一槽底上，然后經由槽體底部慢慢流入較深的第二槽底上，使得漿液的回流速度均勻可控，避免出現漿液溢出現象；

槽體為長條狀，使得漿液的回流具有較強的方向性，漿液按順序回流，回流速度更為穩定可靠；

出料口設于第二槽底的側壁，使得漿液從槽體流出時速度均勻穩定。

附圖說明

圖1為本實用新型具體實施方式的側視結構示意圖；

圖2為本實用新型具體實施方式的俯視結構示意圖。

具體實施方式

以下通過具體實施方式對本實用新型作進一步的描述。

參照圖1和圖2，本實用新型用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的卸料槽裝置，包括長條形槽體11，槽體11的底部11傾斜，在傾斜的槽體底部11形成較淺的第一槽底111和較深的第二槽底112，在第二槽底112的側壁設有一出料口12。

參照圖1和圖2，本實用新型用于幕式淋涂法制造多層陶瓷元件的卸料槽裝置在使用時，漿液從料斗的淋膜頭上垂直流下，從正對第一槽底111上方的槽口落入槽內，然后從槽體底部11緩慢回流到第二槽底112，并從第二槽底112側壁的出料口12流向后面的漿液儲存罐。

上述僅為本實用新型的一個具體實施方式，但本實用新型的設計構思并不局限于此，凡利用此構思對本實用新型進行非實質性的改動，均應屬于侵犯本實用新型保護范圍的行為。