[實(shí)用新型]足型量測(cè)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201020226090.3
• 申請(qǐng)日: 2010-06-13
• 公開（公告）號(hào): CN201691928U
• 公開（公告）日: 2011-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔡銘煌;鄧豐毅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 旭鋒科研股份有限公司;臺(tái)灣冠廉實(shí)業(yè)有限公司
• 主分類號(hào): A61B5/103
• 分類號(hào): A61B5/103
• 代理公司: 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113
• 代理人: 何為

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種足型量測(cè)裝置，尤指一種可讓被測(cè)者站立于足形量測(cè)區(qū)使反射單元映像出其足形影像，并利用影像擷取機(jī)構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像與足壓，以作為醫(yī)學(xué)判斷，而達(dá)到判斷誤差小、量測(cè)精準(zhǔn)度佳以及可實(shí)時(shí)量測(cè)的功效。

背景技術(shù)

一般于醫(yī)療行為上進(jìn)行足型量測(cè)時(shí)，通常是以一可壓印出足部形狀的模型（如：石膏模或硅膠記憶軟墊）作為被測(cè)者的足形轉(zhuǎn)印，并于足形定型之后，讓相關(guān)的醫(yī)療人員以模型上的足印作為醫(yī)學(xué)的判斷與分析。

由于以現(xiàn)有的模型取得被測(cè)者的足形時(shí)，是讓被測(cè)者直接踩在模型上待模型定型后，再藉由該模型上所壓印出的足形作為醫(yī)學(xué)的判斷與分析，因此，常會(huì)因?yàn)楸粶y(cè)者站立于模型上的施力不均或偏移，而使得模型上轉(zhuǎn)印的足形產(chǎn)生有相當(dāng)程度的偏差，進(jìn)而導(dǎo)致相關(guān)醫(yī)療人員于進(jìn)行醫(yī)學(xué)判斷時(shí)會(huì)產(chǎn)生較大的誤差，使分析的精準(zhǔn)度較差，且當(dāng)現(xiàn)有的模型于定型時(shí)通常需要一段時(shí)間，故造成無法實(shí)時(shí)量測(cè)的情形。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是：針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種足型量測(cè)裝置，可讓被測(cè)者以靜態(tài)或動(dòng)態(tài)方式站立于足形量測(cè)區(qū)，而使反射單元映像出其足形影像與足壓，并利用影像擷取機(jī)構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像，以作為醫(yī)學(xué)判斷，而達(dá)到判斷誤差小、量測(cè)精準(zhǔn)度佳以及可實(shí)時(shí)量測(cè)的功效。

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：一種足型量測(cè)裝置，其特點(diǎn)是：該裝置包括殼體、至少一足形量測(cè)區(qū)、反射單元、及影像擷取機(jī)構(gòu)，該殼體具有一容置區(qū)；該足形量測(cè)區(qū)設(shè)于殼體的一面上；該反射單元設(shè)于容置區(qū)底面且與足形量測(cè)區(qū)對(duì)應(yīng)；該影像擷取機(jī)構(gòu)設(shè)于殼體上且對(duì)應(yīng)反射單元。

如此，可讓被測(cè)者以靜態(tài)或動(dòng)態(tài)方式站立于足形量測(cè)區(qū)使反射單元映像出其足形影像，并利用影像擷取機(jī)構(gòu)擷取該反射單元上的足形影像，以作為醫(yī)學(xué)判斷，而達(dá)到判斷誤差小、量測(cè)精準(zhǔn)度佳以及可實(shí)時(shí)量測(cè)的功效。

附圖說明：

圖1是本實(shí)用新型第一實(shí)施例的立體外觀示意圖。

圖2是本實(shí)用新型第一實(shí)施例的剖面狀態(tài)示意圖。

圖3是本實(shí)用新型第一實(shí)施例的使用狀態(tài)示意圖。

圖4是本實(shí)用新型第一實(shí)施例的另一使用狀態(tài)示意圖。

圖5是本實(shí)用新型第二實(shí)施例的示意圖。

圖6是本實(shí)用新型第三實(shí)施例的示意圖。

標(biāo)號(hào)說明：

殼體１????????????????????容置區(qū)１１

框體１２??????????????????軸板１２１

軟墊１３??????????????????軟墊１３a

凸體１３１????????????????樞接部１４

發(fā)光單元１５??????????????足形量測(cè)區(qū)２

反射單元３????????????????影像擷取機(jī)構(gòu)４

發(fā)光單元４１

具體實(shí)施方式：

請(qǐng)參閱圖1及圖2所示，分別為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的立體外觀示意圖及剖面狀態(tài)示意圖。如圖所示：本實(shí)用新型為一種足型量測(cè)裝置，其至少由一殼體１、至少一足形量測(cè)區(qū)２、一反射單元３以及一影像擷取機(jī)構(gòu)４所構(gòu)成。

上述所提的殼體１具有一容置區(qū)１１，且該殼體１一面的兩外側(cè)活動(dòng)設(shè)有一框體１２，各框體１２上分別設(shè)有一軟墊１３(如：將各軟墊１３拉撐后固定于框架１２上)，各軟墊１３可為一平面狀，或依所需于各軟墊１３的一面上布設(shè)有數(shù)個(gè)凸體１３１，而該殼體１上分別設(shè)有與各框體１２活動(dòng)結(jié)合的樞接部１４，并于各框體１２分別以軸板１２１與樞接部１４對(duì)接。

各足形量測(cè)區(qū)２相鄰設(shè)于殼體１的一面上，且各足形量測(cè)區(qū)２為可透光的強(qiáng)化玻璃，且其透明度介于100％～20％。

該反射單元３設(shè)于容置區(qū)１１底面且與足形量測(cè)區(qū)２對(duì)應(yīng)，而該反射單元３可為反射鏡。

該影像擷取機(jī)構(gòu)４設(shè)于殼體１之上的二足形量測(cè)區(qū)２之間且對(duì)應(yīng)反射單元３。如是，藉由上述結(jié)構(gòu)構(gòu)成一全新的足型量測(cè)裝置。

請(qǐng)參閱圖3及圖4所示，分別為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的使用狀態(tài)示意圖及另一使用狀態(tài)示意圖。如圖所示：當(dāng)本實(shí)用新型于使用時(shí)（同時(shí)配合參閱圖1），可翻開各框體１２使軟墊１３遠(yuǎn)離各足形量測(cè)區(qū)２，此時(shí)被測(cè)者的雙足即可以靜態(tài)(如：站立不動(dòng))，或動(dòng)態(tài)?(如：原地行走或行走)的方式于各足形量測(cè)區(qū)２上進(jìn)行量測(cè)，而讓被測(cè)者的雙足影像映像于反射單元３上，進(jìn)而利用影像擷取機(jī)構(gòu)４擷取該反射單元３上所呈現(xiàn)的足形影像并配合相關(guān)的軟件進(jìn)行校正形變，藉以作為醫(yī)學(xué)判斷與所需的分析。