[實用新型]鍍膜基片前置處理裝置在審
| 申請號: | 201020210791.8 | 申請日: | 2010-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN201778107U | 公開(公告)日: | 2011-03-30 |
| 發明(設計)人: | 楊明生;劉惠森;范繼良;郭遠倫;王曼媛;王勇 | 申請(專利權)人: | 東莞宏威數碼機械有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/24 |
| 代理公司: | 廣州三環專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 張艷美;郝傳鑫 |
| 地址: | 523000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍膜 前置 處理 裝置 | ||
1.一種鍍膜基片前置處理裝置,用于對基片鍍膜前的傳輸及翻轉,其特征在于:所述鍍膜基片前置處理裝置包括機械手傳輸單元、基片輸入單元、基片輸出單元、基片翻轉單元、連接通道、控制裝置及抽真空系統,基片輸入單元、基片輸出單元及基片翻轉單元分布于以機械手傳輸單元為圓心的圓上,機械手傳輸單元包括傳輸腔、機械手驅動裝置及至少一個可伸縮的機械手,機械手驅動裝置與機械手連接,傳輸腔呈中空結構,機械手收容于傳輸腔內,機械手驅動裝置驅動機械手在傳輸腔內做圓周旋轉及伸縮運動,所述基片翻轉單元內設有對基片進行翻轉的翻轉裝置,基片輸入單元、基片輸出單元、基片翻轉單元均通過連接通道與傳輸腔連通,連接所述傳輸腔與所述基片輸入單元的連接通道內設置有第一閥門,連接所述傳輸腔與所述基片輸出單元的連接通道內設置有第二閥門,所述控制裝置分別與第一閥門及第二閥門電連接并分別控制二者打開或關閉,所述抽真空系統與所述控制裝置電連接并分別獨立地與所述基片輸入單元及所述基片輸出單元連通,所述抽真空系統在所述控制裝置的作用下調節所述基片輸入單元或所述基片輸出單元的真空度,所述機械手將基片從基片輸入單元送入所述基片翻轉單元內,所述基片翻轉單元通過所述翻轉裝置將基片翻轉一百八十度,基片翻轉后所述機械手將基片送入到所述基片輸出單元內,所述基片輸出單元將基片送出。
2.如權利要求1的鍍膜基片前置處理裝置,其特征在于:還包括基片承載盒及做垂直升降運動的升降機構,基片承載于所述基片承載盒內,所述基片承載盒承載于所述升降機構上,所述基片輸入單元具有供基片輸入的可開啟或關閉的輸入門,所述基片輸出單元具有供基片輸出的可開啟或關閉的輸出門,所述輸入門與所述輸出門均與控制裝置電連接,所述輸入門與所述輸出門分別與一所述升降機構對接。
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