[實用新型]利于濺鍍導通薄膜的塑殼結構有效
| 申請號: | 201020194197.4 | 申請日: | 2010-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN201733529U | 公開(公告)日: | 2011-02-02 |
| 發明(設計)人: | 游敬峰 | 申請(專利權)人: | 柏騰科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K5/00 | 分類號: | H05K5/00;H05K9/00;C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利于 濺鍍導通 薄膜 結構 | ||
技術領域
本實用新型關于一種濺鍍制程導通薄膜的結構改良,特別是關于一種利于濺鍍導通薄膜的塑殼結構。
背景技術
在現今各種電子相關產業中,電磁干擾(EMI,Electromagnetic?Interference)/靜電放電(ESD,Electrostatic?Discharge)的防護,對電子相關產業而言是重要的課題之一。目前來說,為了解決EMI防護效果不佳的問題,目前防電磁干擾的工法包括以金屬鐵片、噴涂導電漆、電鍍、鎂鋁合金及真空濺鍍等方式。然而,其中的真空濺鍍工法可鍍出較薄且平均的金屬薄膜,相對防制EMI效果也較其它工法更佳。在環保上來說,相較金屬鐵片、電鍍及導電漆需使用大量化學藥劑,真空濺鍍工法利用物理原理,將金屬原子鍍在塑料機殼表面,制程較為環保,在成本方面也較其它工法低2~3成,是未來較具潛力的技術。藉由在電子設備的內部組件(例如印刷電路板)及/或電子設備的塑料外殼的內面上,形成一具低阻抗的遮蔽膜(例如一金屬膜),或摻混低阻抗材料至塑料外殼中,來解決電磁干擾/靜電放電的問題。例如,在手機或筆記型計算機的外殼上,運用一層遮蔽的復合材料即是一種常見的處理方式。可利用真空電鍍或其它方式,在塑料殼內部布滿一層如鎳或其它金屬材質之類的屏蔽材質,藉此隔絕電磁波的發散。
實用新型內容
為了提高各種電子組件、或筆記型計算機、手機等電子裝置,其塑料外殼電磁干擾的遮蔽防護效果。緣此,本實用新型的一目的即是提供一種利于濺鍍導通薄膜的塑殼結構。
本實用新型為解決現有技術的問題所采用的技術手段為一種利于濺鍍導通薄膜的塑殼結構。
在本實用新型的第一實施例中,塑殼結構包括:一基材,具有一第一表面及一第二表面;至少一貫孔,開設于該基材的預定位置以貫通該基材的第一表面及第二表面;一第一濺鍍薄膜,經由濺鍍形成于該基材的第一表面;一第二濺鍍薄膜,經由濺鍍形成于該基材的第二表面;其特征在于,該基材的貫孔的孔璧鄰近于該第一表面處形成有一第一斜面,且該第一斜面與該第一表面夾有一第一預定角度,而該基材的貫孔的孔璧鄰近于該第二表面處形成有一第二斜面,且該第二斜面與該第二表面夾有一第二預定角度,其中第一預定角度及第二預定角度較佳為銳角,經由該貫孔的孔璧的第一斜面可使該第一濺鍍薄膜在濺鍍形成時可延伸包覆至該貫孔內達到一預定深度,且經由該貫孔的孔璧的第二斜面可使該第二濺鍍薄膜在濺鍍形成時可延伸包覆至該貫孔內達到一預定深度,使該第一濺鍍薄膜與該第二濺鍍薄膜彼此接觸。
在本實用新型的第二實施例中,其組成及結構特征與第一實施例相似,惟其中貫孔的第一斜面與第二斜面系交界于一預定平面。
在本實用新型的第三實施例中,塑殼結構包括:一基材,具有一第一表面及一第二表面;至少一貫孔,開設于該基材的預定位置以貫通該基材的第一表面及第二表面;一第一濺鍍薄膜,經由濺鍍形成于該基材的第一表面;一第二濺鍍薄膜,經由濺鍍形成于該基材的第二表面;其特征在于,該基材的貫孔的孔璧形成有一第一斜面,且該第一斜面與該第一表面夾有一第一預定角度,其中第一預定角度較佳為銳角,經由該貫孔的孔璧的第一斜面可使該第一濺鍍薄膜在濺鍍形成時可延伸包覆至該貫孔內達到一預定深度,使該第一濺鍍薄膜與該第二濺鍍薄膜彼此接觸。
在本實用新型的第四實施例中,其組成及結構特征與第三實施例相似,惟其中貫孔的第一斜面交界于該基材的第二表面。
經由本實用新型所采用的技術手段,可使在基材上、下表面的濺鍍薄膜在濺鍍制程中易于延伸包覆至貫孔中,且可利用調整其孔徑大小、基材厚度以及第一斜面或第二斜面的角度,控制濺鍍制程中濺鍍膜層包覆至貫孔孔璧的深度,無須再以銀膠或其它導電材質填充于貫孔中,即可達到電性連接的效果。此外,亦可簡化制程的步驟,并節省銀膠或其它導電材質所耗費的成本,在未來可應用于各種相關電子產品及電子組件的塑料外殼上。
附圖說明
圖1為現有濺鍍裝置的示意圖;
圖2為現有塑殼結構的貫孔局部立體圖;
圖3為本實用新型第一實施例的剖視圖;
圖4為本實用新型第二實施例的剖視圖;
圖5為本實用新型第三實施例的剖視圖;
圖6為本實用新型第四實施例的剖視圖。
【主要組件符號說明】
1濺鍍裝置
10真空腔體
11抽真空出口
12氣體入口
2金屬靶材
3載具
4標的工件
5、5a、5b、5c、5d塑殼結構
50基材
51第一表面
511第一斜面
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