[實(shí)用新型]一種新型高效鍍膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020182921.1
• 申請日: 2010-04-01
• 公開（公告）號: CN201670871U
• 公開（公告）日: 2010-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪友林
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳森豐真空鍍膜有限公司;森科五金(深圳)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種新型高效鍍膜裝置，包括一真空鍍膜室，在該真空鍍膜室內(nèi)壁上設(shè)有隔熱屏蔽層，外壁上接有真空抽氣系統(tǒng)，其特征在于：

所述真空鍍膜室內(nèi)安裝有一個(gè)或多個(gè)磁控濺射靶，所述磁控濺射靶位于一距真空鍍膜室中心一定距離的圓周上；

在上述磁控濺射靶所在圓周與真空鍍膜室中心之間的一圓周上安裝有一個(gè)或多個(gè)工件架；

在上述磁控濺射靶所在圓周與真空鍍膜室內(nèi)壁之間的一圓周上同樣安裝有一個(gè)或多個(gè)工件架。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型高效鍍膜裝置，其特征在于，所述工件架均可帶動(dòng)工件實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型高效鍍膜裝置，其特征在于，所述磁控濺射靶可以是固定的平面靶，也可以是能夠轉(zhuǎn)動(dòng)的柱靶。