[實用新型]晶片工藝卡具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201020177136.7 | 申請日: | 2010-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN201699002U | 公開(公告)日: | 2011-01-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 惠峰;趙有文;朱蓉輝 | 申請(專利權)人: | 云南中科鑫圓晶體材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 湯保平 |
| 地址: | 650031 云南*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶片 工藝 卡具 | ||
技術領域
本實用新型涉及晶片加工工具技術領域,特別是一種晶片工藝卡具。
背景技術
用于晶片工藝流程中的卡具,一直以來主要使用真空方式吸附晶片背面來固定晶片,由于不同晶片之間會通過真空吸盤和晶片背面互相傳染二次粘污,造成晶片工藝中的缺陷。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種晶片工藝卡具,一種用于半導體晶片的工藝用卡具,可應用到甩干、清洗、涂膠、檢測等晶片工藝方面,根據晶片的大小和形狀制成不同尺寸,不使用真空吸附,晶片正表面同卡具不接觸,背表面及邊緣同晶片實現(xiàn)點接觸,避免背面的二次粘污,可保證晶片兩面的潔凈程度,轉動穩(wěn)定,不會由于旋轉、移動等工藝操作飛片,不會由于邊緣存在死角載甩干等環(huán)節(jié)中在晶片邊緣留下水跡。
本實用新型提供一種晶片工藝卡具,其特征在于,包括:
一底座,該底座為一圓柱體;
多個四面錐體,所述四面錐體均勻分布于底座的上表面,所述四面錐體的錐端均朝向底座上表面的中心;
多個立柱,該多個立柱直立固定在底座的上表面,且位于兩兩四面錐體之間。
其中所述四面錐體及立柱的數(shù)量相同,分別為2-8個。
其中所述四面錐體的長度小于底座的半徑。
其中所述立柱的高度大于四面錐體的高度。
其中所述多個四面錐體的尾端與底座的外圓齊平。
其中所述立柱的固定位置靠近底座的外圓。
其中所述立柱為圓形或橢圓形或方形的柱體。
本實用新型的有益效果是:其可應用到甩干、清洗、涂膠、檢測等晶片工藝方面,根據晶片的大小和形狀制成不同尺寸,不使用真空吸附,晶片正表面同卡具不接觸,背表面及邊緣同晶片實現(xiàn)點接觸,避免背面的二次粘污,可保證晶片兩面的潔凈程度,轉動穩(wěn)定,不會由于旋轉、移動等工藝操作飛片,不會由于邊緣存在死角載甩干等環(huán)節(jié)中在晶片邊緣留下水跡。
附圖說明
本實用新型的上述及其它目的、優(yōu)點和特色,由以下較佳實施例的詳細說明并參考附圖得以更深入了解,其中:
圖1是本實用新型的晶片卡具結構示意圖。
圖2是本實用新型的裝載晶片后的卡具示意圖。
具體實施方式
請參閱圖1所示,本實用新型提供一種晶片工藝卡具,包括:
一底座3,該底座3為一圓柱體,該底座3的材料是金屬,或具有一定鋼性的其他材料,底座3的尺寸視晶片4(圖2中)的尺寸而定;
多個四面錐體2,所述四面錐體2均勻分布固定于底座3的上表面,所述四面錐體2的錐端21均朝向底座3上表面的中心;所述四面錐體的長度小于底座3的半徑;所述多個四面錐體2的尾端22與底座3的外圓齊平,該四面錐體2的材料是具有一定硬度的工程塑料,可以保護晶片4不被碰傷;
多個立柱1,該多個立柱1直立固定在底座3的上表面,且位于兩兩四面錐體2之間,所述立柱1的高度大于四面錐體2的高度,所述立柱1的固定位置靠近底座3的外圓,所述立柱1為圓形或橢圓形或方形的柱體,該立柱1的材料是具有一定硬度的工程塑料,可以保護晶片4不被意外碰傷。
其中所述四面錐體2及立柱1的數(shù)量相同,分別為2-8個,本實施例的四面錐體2及立柱1的數(shù)量分別為6個。
請參閱圖2,圖2是本實用新型的裝載晶片后的卡具示意圖。
其中晶片4位于晶片工藝卡具由多個四面錐體2組成的支撐結構上,且位于多個立柱1圍組成的范圍內,可以有效防止晶片4的脫落。
在較佳實施例的詳細說明中所提出的具體實施例,僅為了易于說明本實用新型的技術內容,并非將本實用新型狹義地限制于實施例中,凡依本實用新型的精神及權利要求范圍的情況下所作種種變化實施,均屬本實用新型權利要求保護的范圍。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





