[實用新型]站坐兩用凈足器

無效

• 申請號: 201020169005.4
• 申請日: 2010-04-26
• 公開（公告）號: CN201790703U
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 尹海江
• 申請（專利權）人: 尹海江
• 主分類號: A47K7/02
• 分類號: A47K7/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

所屬技術領域

本實用新型涉及一種清理人體足部污垢、死皮和腳臭的凈足器具，尤其是在洗澡時站立洗腳或者坐著洗腳時無須人彎腰上手就可全方位快速徹底有效的清除足部的污垢、死皮和腳臭的站坐兩用凈足器。

背景技術

目前絕大多數人在洗澡時洗腳或者平時坐著洗腳的洗腳方式仍然是傳統的手洗法，此法的弊端是需要彎腰上手費時費力使人厭煩且不易把腳洗凈。目前公知的凈足器具都存在各自的弊端，省時省力的器具如足浴盆內安裝的按摩輪、按摩球、毛刷等，由于足部的新陳代謝物牢固的粘沾于足掌僅憑此類摩擦力弱的器具達不到有效清除足部的污垢、死皮和腳臭的效果；可以徹底有效的清除足部污垢、死皮和腳臭的器具如：磨腳石、銼板等使用時需要人彎腰上手費時費力很不方便。

發明內容

為了克服現有洗腳器具在凈足方面省時省力使用方便的不能徹底有效的清除足部污垢、死皮和腳臭，能徹底有效的清除足部污垢、死皮和腳臭的又需要彎腰上手費時費力極不方便的不足，本實用新型提供一種站坐兩用凈足器，該凈足器在洗澡時站立洗腳或者坐著洗腳時在無須彎腰上手的情況下便可全方位快速徹底有效的清除足部污垢、死皮和腳臭且省時省力使用方便。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：在器物的底部設置有一塊接近正方形的底板，這塊底板的左右兩邊各平行豎立著一塊上部窄下部寬接近梯形的邊板，在稍低于左右兩邊板的中間橫向豎立著一塊上部為半圓柱體的隔板并且與左右兩邊板和底板連成一個沒有縫隙的整體，這四塊板均有一定的厚度。這樣此器物的上部形成了一個較淺且較寬的“U”形凹槽寬度比成人的腳的寬度略寬，此造型用來清洗腳底部和腳側面的污垢；中間的隔板將此器物的中間隔離開后形成前后兩室，其中左右兩邊板的后室部分中間較薄向上下兩端凹弧面形逐漸增厚，其邊沿呈突起的圓弧形且較薄向內側逐漸增厚，此造型用來清洗腳指與腳指之間的污垢；后室內部用來清洗腳指前端的污垢；前室內部用來清洗腳后跟的污垢。在左右兩塊邊板的外側壁上設置有大面積的毛刷，此設置用來清洗腳背和腳側面高處的污垢。各板塊的內交接處均為凹弧面形連接覆蓋其內直角。此器物的內側表面均密集且較均勻的分布著細小堅硬的凸起物。人在洗腳時足部通過與其表面接觸產生滑動摩擦，在摩擦力的作用下可以快速徹底有效的清除足部所有部位的污垢、死皮和腳臭。

本實用新型的有益效果是，各個部分均具有各自不同的凹弧面或凸弧面與足部不同的凸起或凹陷的部位形成凸凹填充陰陽對立，可實現器物的特定部分與足部的特定部位直接產生大面積的有效接觸，通過兩者的摩擦能夠全方位快速徹底有效的清除足部的污垢、死皮和腳臭且人無須彎腰上手。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的前部側面圖。

圖2是本實用新型的前部正面圖。

圖3是本實用新型的后部正面圖。

圖4是本實用新型的橫剖面俯視圖。

圖5是本實用新型的縱剖面正側面圖。

圖中1、底板，2、邊板，3、隔板，4、“U”形凹槽，5、前室，6、后室，7、邊板后室部分，8、毛刷。

具體實施方式

在圖中器物的底部設置有一塊接近正方形的底板1，這塊底板1的左右兩邊各平行豎立著一塊上部窄下部寬接近梯形的邊板2，在稍低于左右兩邊板2的中間橫向豎立著一塊上部為半圓柱體的隔板3并且與左右兩邊板2和底板1連成一個沒有縫隙的整體，這四塊板均有一定的厚度。這樣此器物的上部形成了一個較淺且較寬的“U”形凹槽4寬度比成人的腳的寬度略寬，此造型用來清洗腳底部和腳側面的污垢；中間的隔板3將此器物的中間隔離開后形成前后兩室，其中在左右兩邊板的后室部分7中間較薄向上下兩端凹弧面形逐漸增厚，外側邊沿為圓弧狀較薄向內側逐漸增厚，此造型是用來清洗腳指與腳指之間的污垢；后室6內部是用來清洗腳指前端的污垢；前室5內部是用來清洗腳后跟的污垢。在左右兩塊邊板的外側壁上設置有大面積的毛刷8此裝置用來清洗腳被和腳側面高處的污垢。各板塊的內交接處均為凹弧面形連接覆蓋其內直角。此器物的內側表面均密集且較均勻的分布著細小堅硬的凸起物。人在洗腳時足部通過與其表面接觸產生滑動摩擦，在摩擦力的作用下可以快速徹底有效的清除足部所有部位的污垢、死皮和腳臭。