[實用新型]可更換的等離子處理設備的上部室部分有效
| 申請號： | 201020166556.5 | 申請日： | 2010-03-24 |
| 公開（公告）號： | CN201820736U | 公開（公告）日： | 2011-05-04 |
| 發明（設計）人： | 倫納德·J·夏普萊斯;哈米特·辛格;邁克·S·康恩 | 申請（專利權）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分類號： | H01J37/16 | 分類號： | H01J37/16 |
| 代理公司： | 上海勝康律師事務所 31263 | 代理人： | 周文強;李獻忠 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 更換 等離子 處理 設備 上部 部分 | ||
1.一種可處理半導體基片的等離子反應室的可更換上部室部分，其特征在于，該部分包括：
整體式的金屬圓筒，具有圓錐形內表面，其上端最寬，上部凸緣向外水平延伸遠離該圓錐形內表面，下部凸緣水平延伸遠離該圓錐形內表面；
上部環形真空密封表面，適于密封該等離子室的電介質窗；
下部環形真空密封表面，適于密封該等離子室的下部部分；
在該圓筒上部部分的熱質量，該熱質量由該圓錐形內表面和從該上部凸緣垂直延伸的外表面之間的圓筒部分限定，該熱質量有效提供該圓錐形內表面的角向溫度一致性；
在該圓筒下部部分的熱力壅塞，其有效最小化縱貫該下部真空密封表面的熱傳遞，該熱力壅塞由厚度小于0.25英寸并且延伸該圓錐形內表面至少25％長度的薄金屬區域形成。
2.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于該上部和下部真空密封表面包括至少一個其中適于容納O形環的環形凹槽。
3.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于該上部凸緣包括水平延伸至少1英寸的凹面，該上部真空密封表面水平延伸至少1英寸，該外表面與該圓錐形內表面在該外表面的下端隔開至少1英寸，該外表面與該圓錐形內表面在該外表面的上端隔開至少2英寸。?
4.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于包括安裝孔，用于與提升工具嚙合，提升工具用來在該等離子室的下部室部分上安裝和去除該上部室部分。
5.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于該外表面凹下并包括定位銷孔，其適于容納用來在該外表面上定位加熱和冷卻裝置的定位銷。
6.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于包括至少一個延伸進該上部凸緣的溫度探針安裝孔。
7.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于該圓錐形內表面包括多個安裝孔，適于在其中安裝氣體噴射器。
8.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于該上部凸緣包括安裝孔，其適于容納將RF線圈設在該電介質窗上方的RF線圈安裝裝置。
9.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于該圓錐形內表面在其上包括熱噴涂氧化釔涂層。
10.根據權利要求1所述的可更換上部室部分，其特征在于該圓筒是陽極氧化的鋁。?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于朗姆研究公司，未經朗姆研究公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201020166556.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種軸流式風機葉片
- 下一篇：用于壓縮機的止推關節軸承組件
