[實用新型]一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020154843.4
• 申請日: 2010-04-12
• 公開（公告）號: CN201756583U
• 公開（公告）日: 2011-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 錢鋒;林晶;何光發(fā);楊海友
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市天星達真空鍍膜設(shè)備有限公司
• 主分類號: C23C16/27
• 分類號: C23C16/27;C23C16/505
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置，它包括上電極、下電極、勻氣裝置、抽氣調(diào)節(jié)閥、分子泵、直聯(lián)機械泵、凈化閥、充氣罐、氣瓶和負偏壓監(jiān)測儀，其特征在于上電極、下電極、勻氣裝置放在真空室中，通過抽氣調(diào)節(jié)閥同分子泵和直聯(lián)機械泵相連接，分子泵連接凈化閥，凈化閥分別連接充氣罐和氣瓶，充氣罐通過勻氣裝置連接到真空室內(nèi)，負偏壓監(jiān)測儀膜和射頻電源分別連接上電極和下電極。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置，其特征在于所述的射頻電源在上電極、下電極間形成等離子區(qū)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置，其特征在于所述的直聯(lián)機械泵、凈化閥、充氣罐構(gòu)成氣體沖洗管路，反應(yīng)氣體由氣瓶通過凈化閥、充氣罐、勻氣裝置充入到真空室內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置，其特征在于所述的充氣罐兩邊均設(shè)置有抽氣調(diào)節(jié)閥。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置，其特征在于所述的上電極、下電極采用水冷銅電極。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置，其特征在于所述的勻氣裝置為三級耙式結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種低溫沉積大面積類金剛石薄膜的裝置，其特征在于所述的調(diào)節(jié)抽氣閥為步進電機控制電動該板閥。?