[實用新型]干缸清洗架有效
| 申請號： | 201020136083.4 | 申請日： | 2010-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN201676860U | 公開（公告）日： | 2010-12-22 |
| 發明（設計）人： | 劉衡;李其雄;王曉雷;陳琨;趙國強 | 申請（專利權）人： | 山東新華醫療器械股份有限公司 |
| 主分類號： | B08B9/093 | 分類號： | B08B9/093 |
| 代理公司： | 青島發思特專利商標代理有限公司 37212 | 代理人： | 馬俊榮 |
| 地址： | 255086 山東省淄*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 清洗 | ||
【權利要求書】：
1.一種干缸清洗架，包括架體，其特征在于架體由上、下隔斷分割為上、中、下三層，上隔斷上安裝有位于架體上層空間的上層干缸噴水管，下隔斷上安裝有位于架體中層空間的中層干缸噴水管。
2.根據權利要求1所述的干缸清洗架，其特征在于上層干缸噴水管與水平面呈45度的夾角，中層干缸噴水管與水平面呈30度的夾角。
3.根據權利要求1或2所述的干缸清洗架，其特征在于上層干缸噴水管和中層干缸噴水管的底部均設有不銹鋼彈簧剛帶。
4.根據權利要求1或2所述的干缸清洗架，其特征在于上隔斷中部設有一排豎直放置，位于架體上層空間的試管噴水管。
5.根據權利要求1所述的干缸清洗架，其特征在于架體的下層空間里設有噴射管，噴射管上部和下部均分布有噴射孔。
6.根據權利要求5所述的干缸清洗架，其特征在于架體的下層空間還設有托盤，托盤位于噴射管的下方。
7.根據權利要求1所述的干缸清洗架，其特征在于架體底部設有滾輪。
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