[實(shí)用新型]內(nèi)玻璃管電鍍金屬基底的真空集熱元件

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201020130160.5
• 申請日: 2010-03-12
• 公開（公告）號(hào): CN201652942U
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邱雪琴
• 申請（專利權(quán)）人: 邱雪琴
• 主分類號(hào): F24J2/48
• 分類號(hào): F24J2/48
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及內(nèi)玻璃管電鍍金屬基底的真空集熱元件。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的全玻璃真空集熱管采用內(nèi)玻璃管與罩玻璃管融封，具有可靠性高、制作成本低的優(yōu)點(diǎn)。但因限定在內(nèi)玻璃管上真空濺射吸收膜，其性能受玻璃基板的影響不能有大的發(fā)展或者突破。譬如難以獲得在中、高溫下高效、穩(wěn)定集熱的選擇性吸收膜。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是要提供內(nèi)玻璃管電鍍金屬基底的真空集熱元件。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案：在一個(gè)一端圓封的內(nèi)玻璃管外表面電鍍一層金屬層，電鍍金屬層包括通過化學(xué)置換得到的鍍層。具體可參照現(xiàn)有技術(shù)中關(guān)于在玻璃或者絕緣體上電鍍以及通過化學(xué)置換得到金屬鍍層的內(nèi)容。電鍍金屬層要經(jīng)得住后續(xù)真空烘烤的高溫。在電鍍金屬層的表面包括全部或者部分表面制作吸收膜，包括真空濺射、電化學(xué)工藝制作的選擇性吸收膜；以及利用化學(xué)氣相沉積、共濺射或等離子刻蝕等技術(shù)制備粗糙的微不平表面選擇性吸收膜。將上述制有吸收膜的內(nèi)玻璃管圓封朝里插入一個(gè)一端圓封的罩玻璃管并融封，抽真空及灌裝工質(zhì)，制成一個(gè)內(nèi)玻璃管電鍍金屬基底的真空集熱元件或者熱管真空集熱元件。

還可在內(nèi)玻璃管上先卷繞金屬絲狀物，再電鍍金屬層來制造內(nèi)玻璃管電鍍金屬基底的真空集熱元件。相鄰兩金屬絲狀物之間可存留間隙。

本實(shí)用新型的有益效果包括：在內(nèi)玻璃管上電鍍金屬基底并在電鍍金屬基底上制作吸收膜，既保留了高可靠性、低成本的玻璃管融封工藝；又可以設(shè)計(jì)更多基于金屬基底的吸收膜。金屬具有良導(dǎo)電性和良導(dǎo)熱性、紅外高反射即發(fā)射比低。這使得金屬基底上的選擇性吸收膜具有更高的吸收率、更低的發(fā)射率；能在高溫條件下穩(wěn)定、高效地集熱；能大幅度降低聚光集熱模式下焦斑處的吸收膜最高溫度、減少熱損、延長吸收膜壽命。

在內(nèi)玻璃管上卷繞一層金屬絲狀物作為電鍍金屬層的預(yù)制層可獲得均勻、一致性更好的電鍍金屬層和優(yōu)異的表面質(zhì)量。

附圖說明

以下結(jié)合附圖和實(shí)施例進(jìn)一步加以說明。

圖1是一個(gè)內(nèi)玻璃管電鍍金屬基底的熱管真空集熱元件結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是一個(gè)內(nèi)玻璃管電鍍金屬基底的真空集熱元件結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中1.冷端；2.內(nèi)玻璃管；3.罩玻璃管；4.電鍍金屬層。

具體實(shí)施方式

圖1中，兼作熱管冷端1的內(nèi)玻璃管2和罩玻璃管3融封抽真空制成一個(gè)內(nèi)玻璃管電鍍金屬層4的熱管真空集熱元件。電鍍金屬層4上制有吸收膜。

圖2中，內(nèi)玻璃管2和罩玻璃管3融封抽真空制成一個(gè)內(nèi)玻璃管電鍍金屬層4的真空集熱元件。電鍍金屬層4以小于360°的圓周角部分覆蓋內(nèi)玻璃管2。既能夠保證集熱，又可以節(jié)省材料方便制造，并可以減少真空隔熱層內(nèi)金屬部件的放氣量。