[實用新型]一種包括內熱屏罩和外熱屏罩的單晶爐裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201020118183.4 | 申請日: | 2010-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN201665723U | 公開(公告)日: | 2010-12-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 舟橋啟;賀賢漢;河野貴之 | 申請(專利權)人: | 上海漢虹精密機械有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/00 | 分類號: | C30B15/00 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識產(chǎn)權代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
| 地址: | 200444 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 包括 內熱 外熱屏罩 單晶爐 裝置 | ||
1.一種包括內熱屏罩和外熱屏罩的單晶爐裝置,包括熱屏和石英坩堝,其特征在于,所述熱屏是由斷熱材、熱屏罩、反射板組成,斷熱材設置在石英坩堝的上方,其下部直徑小于上部直徑,斷熱材的內側和外側分別被內熱屏罩和外熱屏罩覆蓋,其內熱屏罩內側放置有反射板,反射板環(huán)繞拉晶中的晶棒,反射板與內熱屏罩之間未預留空間。
2.如權利要求1所述的單晶爐裝置,其特征在于,內熱屏罩和外熱屏罩為一體制成的熱屏罩,斷熱材的四周都由熱屏罩包覆。
3.如權利要求1或2所述的單晶爐裝置,其特征在于,反射板的材質采用即使長時間暴露在高溫中變形仍然很小、輻射率很低的鉬或者鎢。
4.如權利要求1或2所述的單晶爐裝置,其特征在于,反射板為作過鏡面處理的反射板。
5.如權利要求1或2所述的單晶爐裝置,其特征在于,熱屏上部設置上部斷熱材。
6.如權利要求1或2所述的單晶爐裝置,其特征在于,熱屏罩的材質為石墨或C/C復合材料。
7.如權利要求1或2所述的單晶爐裝置,其特征在于,反射板呈現(xiàn)上面大、下面小的圓臺狀。
8.如權利要求2所述的單晶爐裝置,其特征在于,反射板與熱屏罩齊高。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海漢虹精密機械有限公司,未經(jīng)上海漢虹精密機械有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201020118183.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





