[發(fā)明專利]共享字線的無觸點(diǎn)分柵式閃存及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201019063032.5 | 申請(qǐng)日: | 2010-02-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101807581A | 公開(公告)日: | 2010-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹子貴;張雄;謝中華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/115 | 分類號(hào): | H01L27/115;H01L21/8247;H01L23/528 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201203 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 共享 觸點(diǎn) 分柵式 閃存 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)計(jì)制造領(lǐng)域,且特別涉及一種共享字線的無觸點(diǎn)分柵 式閃存及其制造方法。
背景技術(shù)
閃存以其便捷,存儲(chǔ)密度高,可靠性好等優(yōu)點(diǎn)成為非揮發(fā)性存儲(chǔ)器中研究 的熱點(diǎn)。從二十世紀(jì)八十年代第一個(gè)閃存產(chǎn)品問世以來,隨著技術(shù)的發(fā)展和各 類電子產(chǎn)品對(duì)存儲(chǔ)的需求,閃存被廣泛用于手機(jī),筆記本,掌上電腦和U盤等 移動(dòng)和通訊設(shè)備中,閃存為一種非易變性存儲(chǔ)器,其運(yùn)作原理是通過改變晶體 管或存儲(chǔ)單元的臨界電壓來控制門極通道的開關(guān)以達(dá)到存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的目的,使存 儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的數(shù)據(jù)不會(huì)因電源中斷而消失,而閃存為電可擦除且可編程的只 讀存儲(chǔ)器的一種特殊結(jié)構(gòu)。如今閃存已經(jīng)占據(jù)了非揮發(fā)性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的大部 分市場(chǎng)份額,成為發(fā)展最快的非揮發(fā)性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器。
然而現(xiàn)有的閃存在邁向更高存儲(chǔ)密度的時(shí)候,由于受到編程電壓的限制, 通過縮小器件尺寸來提高存儲(chǔ)密度將會(huì)面臨很大的挑戰(zhàn),因而研制高存儲(chǔ)密度 的閃存是閃存技術(shù)發(fā)展的重要推動(dòng)力。傳統(tǒng)的閃存在邁向更高存儲(chǔ)密度的時(shí)候, 由于受到結(jié)構(gòu)的限制,實(shí)現(xiàn)器件的編程電壓進(jìn)一步減小將會(huì)面臨著很大的挑戰(zhàn)。
一般而言,閃存為分柵結(jié)構(gòu)或堆疊柵結(jié)構(gòu)或兩種結(jié)構(gòu)的組合。分柵式閃存 由于其特殊的結(jié)構(gòu),相比堆疊柵閃存在編程和擦除的時(shí)候都體現(xiàn)出其獨(dú)特的性 能優(yōu)勢(shì),因此分柵式結(jié)構(gòu)由于具有高的編程效率,字線的結(jié)構(gòu)可以避免“過擦 除”等優(yōu)點(diǎn),應(yīng)用尤為廣泛。但是由于分柵式閃存相對(duì)于堆疊柵閃存多了一個(gè) 字線從而使得芯片的面積也會(huì)增加,因此如何在提高芯片性能的同時(shí)進(jìn)一步減 小芯片的尺寸是亟需解決的問題。
同時(shí),隨著存儲(chǔ)器件尺寸不斷縮小和存儲(chǔ)密度的不斷上升,形成于內(nèi)層介 電層中的接觸孔的尺寸也會(huì)變得更小,然而該內(nèi)層介電層必須保持合理的厚度, 使得該接觸孔需要保持相當(dāng)大的深寬比(深度/寬度),從而使得半導(dǎo)體襯底上的 接觸點(diǎn)占據(jù)整個(gè)存儲(chǔ)單元面積相當(dāng)大的比率,成為制約存儲(chǔ)器件尺寸和存儲(chǔ)密 度進(jìn)一步發(fā)展的重要因素。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出一種共享字線的無觸點(diǎn)分柵式閃存及其制造方法,其得到的閃 存器件能夠在保持芯片的電學(xué)隔離性能不變的情況下,有效地縮小芯片的面積, 同時(shí)也可以避免過擦除的問題。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明提出一種共享字線的無觸點(diǎn)分柵式閃存,包括:
半導(dǎo)體襯底,其上具有間隔設(shè)置的源極區(qū)域和漏極區(qū)域;
溝道區(qū),位于所述源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間;
第一位線和第二位線,分別連接于所述源極區(qū)域和漏極區(qū)域;
第一浮柵,設(shè)置于所述溝道區(qū)和源極區(qū)域上方;
第二浮柵,設(shè)置于所述溝道區(qū)和漏極區(qū)域上方,所述第一浮柵和第二浮柵 分別構(gòu)成第一存儲(chǔ)位單元和第二存儲(chǔ)位單元;
字線,包括第一部分和第二部分,所述第一部分位于所述溝道區(qū)上方并位 于所述第一浮柵和第二浮柵之間,所述第二部分連接于所述第一部分頂部,并 位于所述第一浮柵和第二浮柵上方,所述第二部分頂部延伸至所述第一位線和 第二位線上方,并通過絕緣層與所述第一位線和第二位線頂部相連接。
進(jìn)一步的,分別對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加第一存儲(chǔ) 位單元讀取電壓,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元讀取。
進(jìn)一步的,對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加的第一存儲(chǔ)位 單元讀取電壓分別為2.5V、0V和1.5V,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元讀取。
進(jìn)一步的,分別對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加第二存儲(chǔ) 位單元讀取電壓,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元讀取。
進(jìn)一步的,對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加的第二存儲(chǔ)位 單元讀取電壓分別為2.5V、1.5V和0V,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元讀取。
進(jìn)一步的,分別對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加第一存儲(chǔ) 位單元編程電壓,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元編程。
進(jìn)一步的,對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加的第一存儲(chǔ)位 單元編程電壓分別為4V、7.5V和0V,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元編程。
進(jìn)一步的,分別對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加第二存儲(chǔ) 位單元編程電壓,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元編程。
進(jìn)一步的,對(duì)所述字線、所述第一位線和所述第二位線施加的第二存儲(chǔ)位 單元編程電壓分別為4V、0V和7.5V,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元編程。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 服務(wù)器、系統(tǒng)及信息共享方法
- 一種信息共享系統(tǒng)及信息共享方法
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- 確定共享乘坐度量
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