[發明專利]膽酸酯光酸發生劑和包含該發生劑的光致抗蝕劑

無效

• 申請號: 201010625251.0
• 申請日: 2010-12-10
• 公開（公告）號: CN102212100A
• 公開（公告）日: 2011-10-12
• 發明（設計）人: E·阿恰達;李明琦;J·瑪蒂亞
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: C07J9/00
• 分類號: C07J9/00;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種光酸發生劑化合物，所述化合物選自下列通式(I)和(II)：

其中通式(I)和(II)為：

在通式(I)和(II)中：

M⁺代表有機鎓基團；

R₁代表甾體結構；

m是0到10的整數；

n是正整數。

2.具有下列通式(III)結構的光酸發生劑化合物：

(R)-X-(C＝O)O(CH₂)_m(CWY)_nSO₃M⁺???????(III)

其中R是甾體結構，

X是連接鍵；

W和Y每次出現時各自獨立為H或F；

M⁺代表有機鎓基團；

m是0到10的整數；

n是正整數。

3.具有下列通式(IV)結構的光酸發生劑化合物：

(R)-X-O(C＝O)(CH₂)_m(CWY)_nSO₃M⁺???????(IV)

其中R是甾體結構，

X是連接鍵；

W和Y每次出現時各自獨立為H或F；

M⁺代表有機鎓基團；

m是0到10的整數；

n是正整數。

4.一種光酸發生劑化合物，所述化合物選自：

其中每個結構中的M⁺代表有機鎓基團，基團R，m和n的定義直接定義在每個結構下方。

5.一種光酸發生劑化合物，所述化合物選自：

6.一種光致抗蝕劑組合物，所述組合物包括樹脂組分和權利要求1至5中任一項所述的光酸發生劑化合物。

7.一種形成光致抗蝕劑浮雕圖像的方法，包括：

a)將權利要求6所述的光致抗蝕劑組合物的涂層施加到基底上；

b)使光致抗蝕劑涂層暴露于形成圖案的激發輻射，以及使暴露的光致抗蝕劑涂層顯影以提供浮雕圖像。