[發明專利]氣體的在位測量方法及裝置有效
| 申請號： | 201010622384.2 | 申請日： | 2010-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN102175642A | 公開（公告）日： | 2011-09-07 |
| 發明（設計）人： | 林德寶;陳生龍;戰宏亮;俞大海 | 申請（專利權）人： | 聚光科技(杭州)股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/39 | 分類號： | G01N21/39;G01N27/407;G01N24/10;G01N21/25 |
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| 地址： | 310052 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氣體 在位 測量方法 裝置 | ||
1.氣體的在位測量方法，其特征在于：
光源發出的測量光在光源和探測器之間形成測量光路，測量光路上具有測量區域和非測量區域；所述非測量區域內通有第一氣體，第一氣體中含有被測氣體；
第一氣體經過氣流延時后進入非測量區域；在氣流延時前或延時中，測得第一氣體中被測氣體的濃度；
分析測量光在測量區域和非測量區域的衰減，并利用第一氣體中被測氣體的濃度，從而獲得測量區域內被測氣體的濃度。
2.根據權利要求1所述的測量方法，其特征在于：測得第一氣體中被測氣體濃度的時間小于或等于第一氣體到達非測量區域的時間。
3.根據權利要求1所述的測量方法，其特征在于：采用管路或旋風罐來延時第一氣體。
4.根據權利要求1所述的測量方法，其特征在于：采用電化學技術或光譜分析技術或順磁分析技術測量第一氣體中被測氣體的濃度。
5.根據權利要求1所述的測量方法，其特征在于：所述被測氣體是氧氣。
6.氣體的在位測量裝置，包括：
光源，輸出的測量光被被測氣體吸收；
探測器，接收穿過測量區域和非測量區域的測量光，并轉換為電信號；
第一氣體提供單元，提供的第一氣體經過氣流延時部件后通入非測量區域，第一氣體中含有被測氣體；
傳感單元，測量氣流延時部件中或上游的第一氣體中被測氣體的濃度；
分析單元，分析測量光的衰減，并利用第一氣體中被測氣體的濃度，從而獲得測量區域內的被測氣體濃度。
7.根據權利要求6所述的測量裝置，其特征在于：所述氣流延時器件采用管路或旋風罐。
8.根據權利要求8所述的測量裝置，其特征在于：所述傳感單元測得濃度的時間小于或等于第一氣體通入非測量區域的時間。
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