[發明專利]等離子處理裝置

無效

• 申請號: 201010621809.8
• 申請日: 2010-12-24
• 公開（公告）號: CN102110572A
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發明（設計）人: 加藤壽;田村辰也;牛窪繁博;菊地宏之
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種等離子處理裝置，利用等離子體對基板進行處理，其特征在于，包括：

真空容器，在其內部利用上述等離子體對上述基板進行處理；

旋轉臺，設于上述真空容器內，形成用于載置基板的至少1個基板載置區域；

旋轉機構，使該旋轉臺旋轉；

氣體供給部，向上述基板載置區域供給等離子體產生用的氣體；

主等離子體產生部，在與上述基板載置區域的通過區域相對的位置的、上述旋轉臺的中央部側和外周側之間呈棒狀延伸地設置，用于向上述氣體供給能量而使其等離子化；

輔助等離子體產生部，在上述真空容器的周向上相對于該主等離子體產生部分開地設置，用于補償由該主等離子體產生部產生的等離子體的不足的部分；

真空排氣部件，將上述真空容器內排成真空。

2.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

該等離子處理裝置具有反應氣體供給部件，該反應氣體供給部件在周向上相對于上述主等離子體產生部和上述輔助等離子體產生部分開地設置，用于對基板進行成膜。

3.根據權利要求2所述的等離子處理裝置，其特征在于，

上述真空容器具有分離區域，該分離區域設于在旋轉臺的周向上相互分開地形成的多個處理區域以及上述多個處理區域之間，

上述反應氣體供給部件分別供給互不相同的反應氣體，

在上述多個處理區域之間供給有用于防止互不相同的反應氣體混合的分離氣體，上述成膜通過依次向基板表面供給互不相同的反應氣體而進行。

4.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

上述主等離子體產生部、上述輔助等離子體產生部和氣體供給部被共用的罩體覆蓋，使得從旋轉臺的旋轉方向上游側流來的氣體在上述主等離子體產生部和上述輔助等離子體產生部與該主等離子體產生部和該輔助等離子體產生部的上方的頂部之間流動。

5.根據權利要求4所述的等離子處理裝置，其特征在于，

在上述罩體的上述旋轉方向上游側設有氣流限制部，該氣流限制部通過使沿長度方向延伸的側面部的下緣以向該上游側延伸的方式呈凸緣狀地彎曲而形成。

6.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

上述輔助等離子體產生部為了補償由上述主等離子體產生部產生的基板載置區域的外緣側的等離子體的不足的部分而設置。

7.根據權利要求6所述的等離子處理裝置，其特征在于，

上述主等離子體產生部和上述輔助等離子體產生部共用作為用于產生等離子體的電力供給源的高頻電源，上述輔助等離子體產生部為了在上述旋轉臺的中央側部位抑制等離子體向基板載置區域擴散，在下方側具有擴散抑制部。

8.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

上述主等離子體產生部和上述輔助等離子體產生部中的至少一個等離子體產生部從上述旋轉臺外周側的上述真空容器的側壁氣密地插入該真空容器內，為了使上述至少一個等離子體產生部的長度方向相對于上述旋轉臺上的基板的表面傾斜，在上述至少一個等離子體產生部的基端部側設有傾斜調整機構。

9.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

上述主等離子體產生部和上述輔助等離子體產生部是互相沿長度方向平行地延伸、用于產生電容耦合型等離子體的平行電極。

10.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，

上述主等離子體產生部和上述輔助等離子體產生部相當于用于產生感應耦合型等離子體的天線中的、棒狀的天線部分。