[發(fā)明專(zhuān)利]物質(zhì)識(shí)別系統(tǒng)中創(chuàng)建分類(lèi)曲線(xiàn)的方法和設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010621626.6
• 申請(qǐng)日: 2007-11-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102175698A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳志強(qiáng);張麗;康克軍;王學(xué)武;黃清萍;李元景;劉以農(nóng);趙自然;肖永順
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 同方威視技術(shù)股份有限公司;清華大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): G01N23/04
• 分類(lèi)號(hào): G01N23/04;G01N23/087
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種物質(zhì)識(shí)別系統(tǒng)中創(chuàng)建分類(lèi)曲線(xiàn)的方法，包括步驟：

針對(duì)多種標(biāo)定材料中的每種標(biāo)定材料：

用高能射線(xiàn)和低能射線(xiàn)照射各種厚度下標(biāo)定材料來(lái)獲得相應(yīng)的高能透明度和低能透明度；

將高能透明度的第一函數(shù)作為橫坐標(biāo)，將低能透明度和高能透明度二者的第二函數(shù)作為縱坐標(biāo)來(lái)形成標(biāo)定材料在不同厚度下的點(diǎn)；以及

基于所述的點(diǎn)形成所述分類(lèi)曲線(xiàn)。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中基于所述點(diǎn)形成所述分類(lèi)曲線(xiàn)的步驟包括：

采用最小二乘曲線(xiàn)擬合法對(duì)所述點(diǎn)進(jìn)行曲線(xiàn)擬合。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中基于所述點(diǎn)形成所述分類(lèi)曲線(xiàn)的步驟包括：

采用切比雪夫意義下的最佳擬合多項(xiàng)式對(duì)所述點(diǎn)進(jìn)行曲線(xiàn)擬合。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括對(duì)所述分類(lèi)曲線(xiàn)進(jìn)行離散化的步驟。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述多種標(biāo)定材料包括：石墨、鋁、鐵和鉛。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中每種標(biāo)定材料從薄到厚設(shè)計(jì)多級(jí)階梯。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其中每種標(biāo)定材料最薄和最厚的厚度由系統(tǒng)的材料分辨范圍決定。

8.如權(quán)利要求6所述的方法，其中階梯級(jí)數(shù)的數(shù)目由標(biāo)定的精度及放置自動(dòng)標(biāo)定裝置的空間共同決定。

9.如權(quán)利要求6所述的方法，其中標(biāo)定材料設(shè)計(jì)為只覆蓋射線(xiàn)束方向的區(qū)域，得到的雙能透射數(shù)據(jù)作為參數(shù)輸入至自動(dòng)標(biāo)定算法中，生成X射線(xiàn)主束方向的能譜分布對(duì)應(yīng)的分類(lèi)參數(shù)，作為所有探測(cè)區(qū)域的分類(lèi)參數(shù)。

10.如權(quán)利要求6所述的方法，其中標(biāo)定材料覆蓋所有感興趣的探測(cè)區(qū)間，把所有探測(cè)高度劃分成多個(gè)區(qū)域，每個(gè)區(qū)域獨(dú)立統(tǒng)計(jì)，生成分類(lèi)參數(shù)。

11.一種物質(zhì)識(shí)別系統(tǒng)中創(chuàng)建分類(lèi)曲線(xiàn)的設(shè)備，包括：

針對(duì)多種標(biāo)定材料中的每種標(biāo)定材料：

用高能射線(xiàn)和低能射線(xiàn)照射各種厚度下標(biāo)定材料來(lái)獲得相應(yīng)的高能透明度和低能透明度的裝置；

將高能透明度的第一函數(shù)作為橫坐標(biāo)，將低能透明度和高能透明度二者的第二函數(shù)作為縱坐標(biāo)來(lái)形成標(biāo)定材料在不同厚度下的點(diǎn)的裝置；以及

基于所述的點(diǎn)形成所述分類(lèi)曲線(xiàn)的裝置。

12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中采用最小二乘曲線(xiàn)擬合法對(duì)所述點(diǎn)進(jìn)行曲線(xiàn)擬合。

13.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中采用切比雪夫意義下的最佳擬合多項(xiàng)式對(duì)所述點(diǎn)進(jìn)行曲線(xiàn)擬合。

14.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中對(duì)所述分類(lèi)曲線(xiàn)進(jìn)行離散化。

15.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述多種標(biāo)定材料包括：石墨、鋁、鐵和鉛。

16.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中每種標(biāo)定材料從薄到厚設(shè)計(jì)多級(jí)階梯。

17.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其中每種標(biāo)定材料最薄和最厚的厚度由系統(tǒng)的材料分辨范圍決定。

18.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其中階梯級(jí)數(shù)的數(shù)目由標(biāo)定的精度及放置自動(dòng)標(biāo)定裝置的空間共同決定。

19.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其中標(biāo)定材料設(shè)計(jì)為只覆蓋射線(xiàn)束方向的區(qū)域，得到的雙能透射數(shù)據(jù)作為參數(shù)輸入至自動(dòng)標(biāo)定算法中，生成X射線(xiàn)主束方向的能譜分布對(duì)應(yīng)的分類(lèi)參數(shù)，作為所有探測(cè)區(qū)域的分類(lèi)參數(shù)。

20.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其中標(biāo)定材料覆蓋所有感興趣的探測(cè)區(qū)間，把所有探測(cè)高度劃分成多個(gè)區(qū)域，每個(gè)區(qū)域獨(dú)立統(tǒng)計(jì)，生成分類(lèi)參數(shù)。