[發明專利]一種干涉儀阿貝余弦誤差自動校準裝置及方法

有效

• 申請號: 201010619281.0
• 申請日: 2010-12-31
• 公開（公告）號: CN102540783A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 許琦欣;孫剛
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種光刻機干涉儀阿貝余弦誤差自動校準裝置，沿光傳播方向依序包括照明光源、設置有物面標記的掩模臺、物鏡成像系統、工件臺以及配置于該所述工件臺的干涉儀，其特征在于還包括設置在所述工件臺上的空間像傳感器，通過所述工件臺在設定位置(nominalposition)處不同旋轉、傾斜下，所述空間像傳感器能夠探測到所述物面標記的空間像時所述干涉儀的測量結果與所述工件臺的設定位置或所述物面標記空間像的理論位置進行比較，擬合得出所述干涉儀阿貝臂與余弦角。

2.如權利要求1所述的光刻機干涉儀阿貝余弦誤差自動校準裝置，其特征在于所述測量結果為所述工件臺的實際位置，所述工件臺的實際位置與所述工件臺的設定位置進行比較以擬合得出所述干涉儀阿貝臂與余弦角。

3.如權利要求1所述的光刻機干涉儀阿貝余弦誤差自動校準裝置，其特征在于所述測量結果為所述物面標記的空間像的實際位置，所述空間像的實際位置與所述空間像的理論位置進行比較以擬合得出所述干涉儀阿貝臂與余弦角。

4.如權利要求1所述的光刻機干涉儀阿貝余弦誤差自動校準裝置，其特征在于所述物面標記為至少兩個，用于測量干涉儀測量軸間距誤差產生的阿貝臂。

5.一種光刻機干涉儀阿貝余弦誤差自動校準裝置，沿光傳播方向依序包括照明光源、設置有物面標記的掩模臺、物鏡成像系統、工件臺以及配置于所述掩模臺的干涉儀，其特征在于還包括設置在所述工件臺上的空間像傳感器，通過掩模臺在不同旋轉、傾斜下，根據所述空間像傳感器能夠探測到所述物面標記的空間像時所述干涉儀的測量結果，反算物面標記位置，并與物面標記設定位置進行比較，擬合出掩模臺干涉儀的阿貝臂與余弦角。

6.一種光刻機干涉儀阿貝余弦誤差自動校準方法，包括如下步驟：

A.移動掩模臺，將所述掩模臺上的物面標記移動到物鏡成像系統正上方，使所述物面標記處于最佳物面處；

B.將工件臺移動到設定位置(nominal?position)，在該設定位置處該工件臺上的空間像傳感器能夠探測到所述物面標記的空間像；

C.設置所述工件臺在所述設定位置處不同的旋轉傾斜值(Rx、Ry、Rz)；

D.在每一組旋轉傾斜姿態下，移動所述工件臺掃描所述物面標記的空間像；

E.由干涉儀測量所述工件臺掃描到所述物面標記的空間像時輸出一測量結果；

F.所述測量結果與所述工件臺的設定位置或所述空間像的理論位置進行比較以擬合得到干涉儀x、y、z向的阿貝臂、余弦角。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于步驟D中的測量結果為所述工件臺的實際位置，步驟F中，是根據所述工件臺的實際位置和設定位置的偏差Δx、Δy、Δz，擬合得到所述干涉儀x、y、z向的阿貝臂、余弦角。

8.如權利要求6所述的方法，其特征在于步驟D中的測量結果為所述空間像的實際位置，步驟F中是根據所述空間像的實際位置與理論位置進行擬合得到所述干涉儀x、y、z向的阿貝臂、余弦角。

9.一種光刻機干涉儀阿貝余弦誤差自動校準方法，包括如下步驟：

A.移動掩模臺，將所述掩模臺上的物面標記移動到物鏡成像系統正上方，使所述物面標記處于最佳物面處；

B.設置所述掩模臺的旋轉傾斜值(Rx、Ry、Rz)；

C.將工件臺移動到設定位置，在該設定位置處所述工件臺上的空間像傳感器能夠探測到空間像；

D.移動所述工件臺掃描所述物面標記的空間像，由干涉儀測量所述工件臺掃描到所述空間像時的所述工件臺的實際位置及所述空間像的實際位置；

E.根據鏡頭倍率及所述空間像實際位置，反算實際物面標記的位置，并求所述實際物面標記位置與其設定位置之間的偏差Δx、Δy；

F.在不同的旋轉傾斜下，重復步驟B～E，可獲得一系列的Δx、Δy，從而可擬合得到所述干涉儀的x、y向的阿貝臂、余弦角。