[發明專利]一種光刻照明系統

有效

• 申請號: 201010619062.2
• 申請日: 2010-12-28
• 公開（公告）號: CN102540752A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 張祥翔
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/00;G02B3/00
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種光刻照明系統，包括光源、聚光鏡、勻光系統、中繼透鏡組、反射鏡、劑量控制單元、掩模，光線經反射鏡后分別進入劑量控制單元和掩模，其特征在于，所述光刻照明系統還包括：

第一中繼透鏡后組，設置在所述反射鏡與所述掩模之間；

第二中繼透鏡后組，設置在所述反射鏡與所述劑量控制單元之間，所述第一中繼透鏡后組和所述第二中繼透鏡后組結構相同，用于使劑量傳感器和掩模上的照度具有對應的線性關系。

2.如權利要求1所述的光刻照明系統，其特征在于所述第一中繼透鏡后組及第二中繼透鏡后組為兩片凸透鏡結構，用于保證劑量控制測量面的均勻性。

3.如權利要求1所述的光刻照明系統，其特征在于在所述劑量控制單元前還包括角度調整裝置。

4.如權利要求3所述的光刻照明系統，其特征在于所述角度轉換裝置具有兩組透鏡，變換近軸光線的孔徑角，其光學系統倍率為-0.5～-4，探測小孔直徑不大于50μm。

5.如權利要求1所述的光刻照明系統，其特征在于所述劑量控制單元還包括一消光裝置。

6.如權利要求1所述的光刻照明系統，其特征在于在所述劑量控制單元還包括一信號放大電路。

7.如權利要求1所述的光刻照明系統，其特征在于所述反射鏡的反射率為99％，透過率為1％。

8.如權利要求1所述的光刻照明系統，其特征在于經過所述反射鏡后，轉折光路的入射光線的入射角小于10度。

9.如權利要求1所述的光刻照明系統，其特征在于所述聚光鏡形成多種照明模式，包括環形照明、傳統照明、二極照明、四極照明。