[發明專利]圖像處理裝置、圖像處理方法和程序

無效

• 申請號: 201010615082.2
• 申請日: 2010-12-17
• 公開（公告）號: CN102110287A
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發明（設計）人: 渡邊真司
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 楊林森;李春暉

1.一種圖像處理裝置，包括：

紋理提取單元，提取G校正圖像的紋理分量，在所述G校正圖像中，對包括輸入圖像的G分量的G圖像的結構分量的模糊或者散焦進行了校正；

掩模生成單元，生成掩模圖像，在所述掩模圖像中，對于所述輸入圖像的G分量的變化和所述輸入圖像的R分量的變化之間的相關性或者所述輸入圖像的G分量的變化和所述輸入圖像的B分量的變化之間的相關性中的至少一個相關性弱的區域，減小所述G校正圖像的所述紋理分量到R校正圖像和B校正圖像的合成量，其中在對通過縮小包括所述輸入圖像的R分量的R圖像而獲得的圖像的結構分量的模糊或者散焦進行校正之后所述R校正圖像還原到縮小之前的大小，在對通過縮小包括所述輸入圖像的B分量的B圖像而獲得的圖像的結構分量的模糊或者散焦進行校正之后所述B校正圖像還原到縮小之前的大小；以及

合成單元，使用所述掩模圖像，將所述G校正圖像的所述紋理分量合成到所述R校正圖像和所述B校正圖像。

2.根據權利要求1所述的圖像處理裝置，其中，所述掩模生成單元生成第一掩模圖像，在所述第一掩模圖像中，對于所述R圖像的高頻分量和所述G圖像的高頻分量之間的相關性弱的區域，減小所述G校正圖像的所述紋理分量到所述R校正圖像的合成量；所述掩模生成單元生成第二掩模圖像，在所述第二掩模圖像中，對于所述B圖像的高頻分量和所述G圖像的高頻分量之間的相關性弱的區域，減小所述G校正圖像的所述紋理分量到所述B校正圖像的合成量，所述合成單元使用所述第一掩模圖像，將所述G校正圖像的所述紋理分量合成到所述R校正圖像，并且使用所述第二掩模圖像，將所述G校正圖像的所述紋理分量合成到所述B校正圖像。

3.根據權利要求2所述的圖像處理裝置，其中，所述掩模生成單元包括：

高頻提取單元，提取所述R圖像、所述G圖像和所述B圖像的高頻分量；

檢測單元，檢測所述R圖像的高頻分量和所述G圖像的高頻分量之間的差以及所述B圖像的高頻分量和所述G圖像的高頻分量之間的差；以及

生成單元，生成所述第一掩模圖像，在所述第一掩模圖像中，對于所述R圖像的高頻分量和所述G圖像的高頻分量之間的差為大的區域，減小所述G校正圖像的所述紋理分量到所述R校正圖像的合成量；并且生成所述第二掩模圖像，在所述第二掩模圖像中，對于所述B圖像的高頻分量和所述G圖像的高頻分量之間的差為大的區域，減小所述G校正圖像的所述紋理分量到所述B校正圖像的合成量。

4.根據權利要求1所述的圖像處理裝置，還包括：

縮小單元，縮小所述R圖像和所述B圖像；

校正單元，對通過縮小所述R圖像而獲得的R縮小圖像的結構分量、通過縮小所述B圖像而獲得的B縮小圖像的結構分量和所述G圖像的結構分量的模糊或者散焦進行較正；以及

放大單元，將模糊或者散焦經過校正之后的所述R縮小圖像和所述B縮小圖像還原到原始大小。

5.一種圖像處理方法，包括如下步驟：在圖像處理裝置處，

提取G校正圖像的紋理分量，在所述G校正圖像中，對包括輸入圖像的G分量的G圖像的結構分量的模糊或者散焦進行了校正；

生成掩模圖像，在所述掩模圖像中，對于所述輸入圖像的G分量的變化和R分量的變化之間的相關性或者所述輸入圖像的G分量的變化和B分量的變化之間的相關性中的至少一個相關性弱的區域，減小所述G校正圖像的所述紋理分量到R校正圖像和B校正圖像的合成量，其中在對通過縮小包括所述輸入圖像的R分量的R圖像而獲得的圖像的結構分量的模糊或者散焦進行校正之后所述R校正圖像還原到縮小之前的大小，在對通過縮小包括所述輸入圖像的B分量的B圖像而獲得的圖像的結構分量的模糊或者散焦進行校正之后所述B校正圖像還原到縮小之前的大小；以及

使用所述掩模圖像，將所述G校正圖像的所述紋理分量合成到所述R校正圖像和所述B校正圖像。