[發明專利]一種復合薄膜及其制作方法

無效

• 申請號: 201010613032.0
• 申請日: 2010-12-29
• 公開（公告）號: CN102173111A
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發明（設計）人: 許廷竹;王順程;盧萬森;蘇姮月;林亞辰
• 申請（專利權）人: 岱緯科技股份有限公司
• 主分類號: B32B5/30
• 分類號: B32B5/30
• 代理公司: 廣州中浚雄杰知識產權代理有限責任公司 44254
• 代理人: 張少君

技術領域

本發明涉及一種復合薄膜結構及其制作方法，尤指一種使殼體表面具有可調整光澤度且抗指紋的薄膜。

背景技術

模內射出之成型技術為利用射出成型將含硬化層的油墨或圖案轉印到殼件或殼體上之技藝。然而，根據現知的模內射出制程，硬化層會在轉印后而在殼件或殼體表面形成保護作用，并由于硬化層表面光滑平整，故難以使殼件或殼體表面產生所欲的結構外觀或觸感，進而減少了消費者的購買欲。

一般應用如在手機、筆記本電腦、鼠標等3C產品的IMD制程(In-MoldDecoration)，當產品的外觀光澤度過高而無法適當控制時，往往容易導致指紋的沾黏。為避免此狀況，往往使用添加蠟，之后再噴涂于產品表面。惟此方法容易導致環境污染，且會因噴涂技術影響而導致產品良率無法提升，進而增加生產成本。

傳統的模內射出在殼體面轉印了油墨層與硬化層，其中硬化層在轉印后會在零件的最外層。硬化層由于表面平整光滑賦予殼體表面有較高的光澤度(GLOSS)。但是高光澤度容易顯現出指紋等臟污。人類手指上的油脂容易沾附在光滑的硬化層之上造成指紋；同時有時殼體表面亦有低光澤度的需求。此時傳統的模內射出薄膜就無法滿足要求。

現知的技藝中，為了達到抗指紋及低光澤度的需求，常在硬化層中添加微米粒子，藉由粒子散射光線并在表面制造出粗糙面以降低光澤度，但是硬化層具有相當的厚度，因此為了在硬化層表面可制造出粗糙面.所添加的粒徑必須要求稍大于硬化層的厚度.而一般太大的粒子容易產生沉降，以至于后續施工時造成表面粒子分布不均影響整體的散射效果。

利用添加粒子在離型層當中亦能達到抗指紋及低光澤的要求，但是因為離型中一般皆含有硅利康成分，常會與粒子本身產生兼容性不佳。造成干膜后其表面會有有機相與無機相的兩相分離現象.導致粒子分布不均勻。

現知的技藝中也可在載體薄膜制造時先添加粒子，讓后續的離型層覆蓋時，在離型層表面制造出粗糙度，但是此類載體薄膜通常屬于特殊用途，需要較高的成本導致無法大量生產，且使整體的制造成本提高。

有鑒于此，有必要提供一種可有效的調整所需表面光澤度且能克服上述缺點之技術。

因此，目前亟需一種可解決添加粒子于離型層中分散不均或偏高的制作成本等問題及出表面具有可調整光澤度且抗指紋之殼體制作方法

發明內容

本發明之目的在于提供一種可用于射出成型制程的復合薄膜結構及其制作方法，藉以制作出表面具有可調整光澤度且抗指紋的殼體，并可解決現知中添加粒子于離型層中分散不均或偏高的制作成本等問題。為達前述目的，本發明提供一種復合薄膜，其依次包括：一載體；一離型層，其包括有復數個粒子；一硬化層；一油墨層；一黏著層；其中，所述復數個粒子的直徑大于所述離型層的厚度。

作為改進，所述復數個粒子為蠟、二氧化硅、二氧化鈦、聚胺酯(PU，polyurethane)或其組合。

作為改進，所述復數個粒子的粒徑為1μm至5μm。

至于復數個粒子所占比例并無特別限制，主要依據形成的成品表面所欲表現的粗糙感或光澤度而據以調整，較佳的是，所述復數個粒子在離型層中所占重量百分比為2％至20％。

作為改進，復合薄膜的表面，其60度角光澤度測量值為2至99。

本發明亦提供一種復合薄膜的制作方法，其步驟包括：提供一載體；提供一離型層；形成復數個粒子于該離型層中；提供一硬化層；提供一油墨?層；以及提供一黏著層；其中，該復數個粒子的直徑大于該離型層的厚度。

作為改進，所述復數個粒子可為蠟、二氧化硅、二氧化鈦、聚胺酯(PU，polyurethane)或其組合。

作為改進，所述復數個粒子的粒徑為1μm至5μm。

至于復數個粒子所占比例并無特別限制，主要依據形成的成品表面所欲表現的粗糙感或光澤度而據以調整，較佳的是，所述復數個粒子在離型層中所占重量百分比為2％至20％。

作為改進，所形成復合薄膜的表面，其60度角光澤度測量值為2至99。

此外，在形成復數個粒子于該離型層中時，可進一步在復數個粒子中添加高分子或離子型界面活性劑作為分散劑，以使該復數個粒子均勻分散。

作為改進，所述添加的高分子或離子型界面活性劑的較佳比例為0.1％至2％。

承上，根據本發明的制作方法，還包括一射出成型步驟，以藉前述制作方法形成的復合薄膜以射出成型步驟形成最終產品。