[發明專利]具有窗口加熱結構的基板處理裝置

有效

• 申請號: 201010612998.2
• 申請日: 2010-12-30
• 公開（公告）號: CN102148126A
• 公開（公告）日: 2011-08-10
• 發明（設計）人: 孫亨圭
• 申請（專利權）人: 麗佳達普株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 陳英俊

1.一種具有窗口加熱結構的基板處理裝置，其特征在于，包括：

腔室，執行基板處理工藝；

窗口，設置在上述腔室的上部，并且由絕緣體構成，以便在腔室內部和天線之間起到耦合作用；

加熱管，配置在上述窗口的上部，向上述窗口的上表面噴射加熱空氣來加熱窗口；

加熱空氣供給機構，向上述加熱管供給加熱空氣。

2.如權利要求1所述的具有窗口加熱結構的基板處理裝置，其特征在于，

上述腔室包括腔室主體和與該腔室主體的上部接合的導引架，

上述導引架包括構成四邊形框體的外廓面的外廓架、和在上述外廓架的內部相互連接進行分隔以構成多個窗口的分隔架，在其中央部配置有被上述分隔架分隔而成的中央窗口，以上述中央窗口為中心在該中央窗口的周邊配置有被上述分隔架分隔成多個的多個周邊窗口，

上述加熱管構成為可對上述中央窗口和上述周邊窗口的全部進行加熱。

3.如權利要求1所述的具有窗口加熱結構的基板處理裝置，其特征在于，

上述加熱管以水平方向配置在上述窗口的上部，并且朝著窗口方向形成有多個噴射口。

4.如權利要求1所述的具有窗口加熱結構的基板處理裝置，其特征在于，

上述加熱空氣供給機構是同時產生加熱空氣和冷卻空氣的渦流發生器。

5.如權利要求4所述的具有窗口加熱結構的基板處理裝置，其特征在于，

在上述天線的內部形成有可使冷卻流體通過的流路，

在上述加熱空氣供給機構產生的冷卻空氣被供給至上述天線的流路，可冷卻天線。